[发明专利]一种用于对负光阻桥接缺陷的扫描方法

权利要求书

1.一种用于对负光阻桥接缺陷的扫描方法，其特征在于，包括下述步骤：

步骤1.对负光阻制程芯片进行划分；

步骤2.根据划分区域采用与所述划分区域对应的入射偏振光逐一对所述划分区域进行扫描，并存储扫描区域的缺陷数据；

步骤3.将所述存储扫描区域的缺陷数据整合以获取所述负光阻制程芯片的桥接缺陷扫描结构。

2.如权利要求1所述用于对负光阻桥接缺陷的扫描方法，其特征在于，步骤1的具体过程为：

根据所述负光阻制程芯片的横向和纵向电路特征，将所述负光阻制程芯片划分为：横向区域和纵向区域。

3.如权利要求2所述用于对负光阻桥接缺陷的扫描方法，其特征在于，步骤2中所述入射偏振光包括：纵向的入射偏振光和横向的入射偏振光。

4.如权利要求3所述用于对负光阻桥接缺陷的扫描方法，其特征在于，步骤2中所述扫描包括：横向扫描和纵向扫描，对所述对负光阻制程芯片进行扫描时采用横向扫描或纵向扫描。

5.如权利要求4所述用于对负光阻桥接缺陷的扫描方法，其特征在于，步骤2的具体过程为：

对所述横向区域采用与所述横向区域垂直的纵向的入射偏振光对所述区域进行扫描，并存储横向区域的缺陷数据；

对所述纵向区域采用与所述纵向区域垂直的横向的入射偏振光对所述区域进行扫描，并存储纵向区域的缺陷数据。

6.如权利要求5所述用于对负光阻桥接缺陷的扫描方法，其特征在于，步骤3的具体过程为：

将所述横向区域的缺陷数据与所述纵向区域的缺陷数据进行整合获取以获取所述负光阻制程芯片的桥接缺陷扫描结构。