[发明专利]用于微机电系统器件的有源侧向力粘滞自恢复有效
申请号: | 201410164571.9 | 申请日: | 2014-04-23 |
公开(公告)号: | CN104176697B | 公开(公告)日: | 2017-10-13 |
发明(设计)人: | 贾克妙;P·T·琼斯 | 申请(专利权)人: | 飞思卡尔半导体公司 |
主分类号: | B81B3/00 | 分类号: | B81B3/00;B81B7/00 |
代理公司: | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所11038 | 代理人: | 陈华成 |
地址: | 美国得*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 用于 微机 系统 器件 有源 侧向 力粘滞 恢复 | ||
1.一种MEMS器件,包括:
第一检测质量块,受到所述第一检测质量块和所述MEMS器件的固定部分之间的粘滞力;
用于响应于所述粘滞力将释放力施加于所述第一检测质量块的部件,其中
所述释放力足以释放所述粘滞力,并且
所述释放力包括正交于与所述粘滞力相关联的粘滞力矢量的释放力矢量;其中用于施加释放力的部件包括用于施加电磁力的部件;其中用于施加电磁力的部件包括:
形成于所述第一检测质量块的一部分的侧面上的电极;以及
固定电极,在与形成于所述第一检测质量块的所述部分的侧面上的电极接近的固定表面上形成,其中
所述第一检测质量块的所述部分包括在所述粘滞力下与所述MEMS器件的固定部分接触的位置。
2.根据权利要求1所述的MEMS器件,其中
所述固定电极被配置成施加足够大小的电荷以与位于所述第一检测质量块的所述侧面上的电极生成电磁力,以及
所述释放力包括所述电磁力。
3.一种MEMS器件,包括:
第一检测质量块,受到所述第一检测质量块和所述MEMS器件的固定部分之间的粘滞力;
用于响应于所述粘滞力将释放力施加于所述第一检测质量块的部件,其中
所述释放力足以释放所述粘滞力,并且
所述释放力包括正交于与所述粘滞力相关联的粘滞力矢量的释放力矢量;其中用于施加释放力的部件包括用于施加机械力的部件;
其中用于施加机械力的部件包括:
位于所述第一检测质量块附近的第二MEMS器件,其中所述第二MEMS器件被配置成响应于所述粘滞力碰撞所述第一检测质量块;
其中
跷跷板加速计包括所述第一检测质量块,
所述第一检测质量是旋转的检测质量块,
电容板XY加速计包括所述第二MEMS器件,以及
所述电容板XY加速计包括被配置成碰撞所述MEMS器件的碰撞特征部。
4.根据权利要求3所述的MEMS器件,其中所述电容板XY加速计还包括:
电容板对,被配置成响应于所述粘滞力移动所述电容板XY加速计的第二检测质量块以碰撞所述第一检测质量块。
5.根据权利要求4所述的MEMS器件,其中所述电容板对被进一步配置成响应于所述电容板XY加速计的X轴或Y轴方向的移动提供电容信号。
6.一种半导体器件封装,包括:
包括第一检测质量块的Z轴加速计,其中当所述第一检测质量块的一部分接触固定表面时所述Z轴加速计受到粘滞力;以及
包括第二检测质量块的电容板XY加速计,其中所述第二检测质量块的一部分被配置成响应于所述粘滞力碰撞所述第一检测质量块的所述部分。
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