[发明专利]一种金属低刻蚀光刻胶剥离液有效
申请号: | 201410165928.5 | 申请日: | 2014-04-23 |
公开(公告)号: | CN105022237B | 公开(公告)日: | 2020-07-03 |
发明(设计)人: | 刘江华;刘兵;彭洪修 | 申请(专利权)人: | 安集微电子科技(上海)股份有限公司 |
主分类号: | G03F7/42 | 分类号: | G03F7/42 |
代理公司: | 北京大成律师事务所 11352 | 代理人: | 李佳铭 |
地址: | 201201 上海市浦东新区华东路*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 金属 刻蚀 光刻 剥离 | ||
1.一种金属低刻蚀光刻胶剥离液,其特征在于,由(1)季胺氢氧化物,(2)醇胺,(3)有机溶剂,(4)糖酸或糖酸内酯,(5)带有颜料亲和基团的星型共聚物组成,且所述的季胺氢氧化物的含量为质量百分比0.1-10%,所述的醇胺含量为质量百分比0.1-20%,所述的糖酸或糖酸内酯含量为质量百分比0.05~6%,所述的有机溶剂为余量;所述的醇胺为选自单乙醇胺、N-甲基乙醇胺、二乙醇胺、三乙醇胺、异丙醇胺、乙基二乙醇胺、N,N-二乙基乙醇胺、N-(2-氨基乙基)乙醇胺和二甘醇胺中的一种或多种;糖酸或糖酸内酯为五元糖酸或糖酸内酯和/或六元糖酸或糖酸内酯;所述的带有颜料亲和基团的星型共聚物含量为质量百分比10ppm~3%;所述的带有颜料亲和基团的星型共聚物为含有羟基、氨基或羧基的颜料亲和基团的星型聚合物,或者含颜料亲和基团的聚丙烯酸酯类星型共聚物;所述的有机溶剂为亚砜、砜、咪唑烷酮、吡咯烷酮、咪唑啉酮、酰胺和醇醚中的一种或多种。
2.如权利要求1所述的金属低刻蚀光刻胶剥离液,其特征在于,其中所述的季胺氢氧化物的含量为质量百分比0.5-8%,所述的醇胺含量为质量百分比0.5-10%,所述的糖酸或糖酸内酯含量为质量百分比0.1-5%,所述的溶剂为余量。
3.如权利要求1所述的金属低刻蚀光刻胶剥离液,其特征在于,其中所述的季胺氢氧化物为选自四甲基氢氧化铵、四乙基氢氧化铵、四丙基氢氧化铵、四丁基氢氧化铵、十六烷基三甲基氢氧化铵和苄基三甲基氢氧化铵中的一种或多种。
4.如权利要求1所述的金属低刻蚀光刻胶剥离液,其特征在于,其中所述的糖酸或糖酸内酯选自D-核糖酸、L-核糖酸、核糖酸-1,4-内酯、D-(+)核糖酸-γ-内酯、葡萄糖酸、D-葡萄糖醛酸、D-葡萄糖酸-γ-内酯、L-葡糖酸-1,5-内酯、D-葡糖醛酸-3,6-内酯、D-甘露糖酸-1,4-内酯、L-甘露糖酸-1,4-内酯、甘露糖二酸、甘露糖二酸-1,4-内酯、葡萄糖二酸、D-葡萄糖二酸1,4-内酯中的一种或几种。
5.如权利要求1所述的金属低刻蚀光刻胶剥离液,其特征在于,其中所述的带有颜料亲和基团的星型共聚物含量为质量百分比0.05-3%。
6.如权利要求1所述的金属低刻蚀光刻胶剥离液,其特征在于,其中所述的带有颜料亲和基团的聚丙烯酸酯类星型共聚物为含有羟基或氨基的聚丙烯酸酯类星型共聚物。
7.如权利要求6所述的金属低刻蚀光刻胶剥离液,其特征在于,其中所述的含有羟基或氨基的聚丙烯酸酯类星型共聚物为聚丙烯酸星型共聚物、苯乙烯与丙烯酸羟乙酯的二元星型共聚物、丙烯酸、马来酸酐与苯乙烯三元星型共聚体系,丙烯酸甲酯及丙烯酸羟乙酯的二元星型共聚物、丙烯酸与马来酸的二元共聚物,丙烯酸与及丙烯酸羟乙酯的二元星型共聚物、或丙烯酸与丙烯酸丁酯及丙烯酰胺的三元星型共聚物。
8.如权利要求1所述的金属低刻蚀光刻胶剥离液,其特征在于,所述的亚砜为二甲基亚砜和甲乙基亚砜中的一种或多种;所述的砜为甲基砜、环丁砜中的一种或多种;所述的咪唑烷酮为2-咪唑烷酮和1,3-二甲基-2-咪唑烷酮中的一种或多种;所述的吡咯烷酮为N-甲基吡咯烷酮和N-环己基吡咯烷酮中的一种或多种;所述的咪唑啉酮为1,3-二甲基-2-咪唑啉酮;所述的酰胺为二甲基甲酰胺和二甲基乙酰胺中的一种或多种;所述的醇醚为二乙二醇单丁醚和二丙二醇单甲醚中的一种或多种。
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