[发明专利]一种连续多真空室卷绕镀膜设备

说明书

技术领域

本发明涉及一种镀膜设备，具体涉及一种连续多真空室卷绕镀膜设备。

背景技术

常见的真空卷绕镀膜设备按其工作原理可分为:电阻加热蒸发真空卷绕镀膜设备;感应加热蒸发真空卷绕镀膜设备;电子束加热蒸发真空卷绕镀膜设备;磁控溅射真空卷绕镀膜设备等。其中电子束加热真空卷绕镀膜设备用于大量蒸镀高熔点物质如SiO2。而磁控溅射原理的卷绕镀膜设备生产效率较低,但具有镀膜适应范围宽,膜层附着牢的优点。真空卷绕镀膜设备按其用途可分为:装饰用真空卷绕镀膜设备;包装用真空卷绕镀膜设备;功能膜真空卷绕镀膜设备。装饰用真空卷绕镀膜设备和包装用真空卷绕镀膜设备可细分为镀膜镀纸两用设备、镀膜专用设备、镀纸专用设备。其中镀纸专用设备侧重于向镀制大卷径的厚卡纸发展。

目前，现有的真空卷绕镀膜设备大多采用油扩散泵系统，在镀膜时通常是需要经过多次沉积才能完成的。

发明内容

为了解决现有技术的缺陷，本发明提供一种连续多真空室卷绕镀膜设备，全部采用分子泵系统，各沉积室之间设有隔离腔，可以很好的避免气体间相互干扰，可以一次性沉积多种膜层，也可以实现多种工艺膜系一次完成。

为了解决上述技术问题，本发明采用如下技术方案：一种连续多真空室卷绕镀膜设备，其特征在于：所述设备包括放卷机构、放卷室、隔离阀门、真空溅射室A、真空溅射机构A、隔离腔、真空溅射室B、真空溅射机构B、隔离腔、真空溅射室C、真空溅射机构C、导向轴、收卷室、收卷机构、隔离机构、沉积室A、沉积室B以及沉积室C，所述放卷室中设置有放卷机构，所述沉积室A中设置有真空溅射室A，所述真空溅射室A中设置有真空溅射机构A，所述所述沉积室B中设置有真空溅射室B，所述真空溅射室B中设置有真空溅射机构B，所述所述沉积室C中设置有真空溅射室C,所述真空溅射室C中设置有真空溅射机构C，所述收卷室中设置有收卷机构，所述隔离机构上分别设置有隔离阀门、隔离腔、隔离腔和导向轴。

本发明的有益效果是：本发明提供一种连续多真空室卷绕镀膜设备，全部采用分子泵系统，各沉积室之间设有隔离腔，可以很好的避免气体间相互干扰，可以一次性沉积多种膜层，也可以实现多种工艺膜系一次完成。

 

附图说明

图1为本发明所述的一种连续多真空室卷绕镀膜设备的结构示意图。

 

具体实施方式

下面结合附图对本发明作进一步说明。

一种连续多真空室卷绕镀膜设备，其特征在于：所述设备包括放卷机构（1）、放卷室（2）、隔离阀门（3）、真空溅射室A（4）、真空溅射机构A（5）、隔离腔（6）、真空溅射室B（7）、真空溅射机构B（8）、隔离腔（9）、真空溅射室C（10）、真空溅射机构C（11）、导向轴（12）、收卷室（13）、收卷机构（14）、隔离机构（15）、沉积室A（16）、沉积室B（17）以及沉积室C（18），所述放卷室（2）中设置有放卷机构（1），所述沉积室A（16）中设置有真空溅射室A（4），所述真空溅射室A（4）中设置有真空溅射机构A（5），所述所述沉积室B（17）中设置有真空溅射室B（7），所述真空溅射室B（7）中设置有真空溅射机构B（8），所述所述沉积室C（18）中设置有真空溅射室C（10）,所述真空溅射室C（10）中设置有真空溅射机构C（11），所述收卷室（13）中设置有收卷机构（14），所述隔离机构（15）上分别设置有隔离阀门（3）、隔离腔（6）、隔离腔（9）和导向轴（12）。

以上是对本发明的描述而非限定，基于本发明思想的其他实施例，亦均在本发明的保护范围之中。