[发明专利]含有氟代氧化亚烷基的聚合物改性硅烷、与该硅烷相关的表面处理剂以及物品有效
申请号: | 201410167158.8 | 申请日: | 2014-04-24 |
公开(公告)号: | CN104119524B | 公开(公告)日: | 2017-12-29 |
发明(设计)人: | 酒匂隆介;松田高至;山根佑治 | 申请(专利权)人: | 信越化学工业株式会社 |
主分类号: | C08G65/337 | 分类号: | C08G65/337;C08G65/336;C09D171/03 |
代理公司: | 北京市柳沈律师事务所11105 | 代理人: | 沈雪 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 含有 氧化 烷基 聚合物 改性 硅烷 相关 表面 处理 以及 物品 | ||
1.一种含有氟代氧化亚烷基的聚合物改性硅烷,其由下述通式(1)表示:
式中,Rf为1价或2价的直链的含有氟代氧化亚烷基的聚合物残基,b平均为2~6,Z独立地为任选具有硅氧烷键的2~6价的基团,R独立地为碳原子数1~4的烷基或苯基,X独立地为水解性基团,a独立地为2或3,y每单元独立地为1~5的整数,α为1~5的整数,β为1或2。
2.如权利要求1所述的含有氟代氧化亚烷基的聚合物改性硅烷,其中,所述式(1)的β为1,Rf基为下述通式(2)所示的基团:
F-(CF2O)p(CF2CF2O)q(CF2CF2CF2O)r(CF2CF2CF2CF2O)s-(2)
式中,p、q、r、s分别为0~200的整数,为p+q+r+s=3~200,各重复单元可以无规地键合。
3.如权利要求1所述的含有氟代氧化亚烷基的聚合物改性硅烷,其中,所述式(1)的β为2,Rf基为下述通式(3)所示的基团:
-O(CF2O)p(CF2CF2O)q(CF2CF2CF2O)r(CF2CF2CF2CF2O)s-(3)
式中,p、q、r、s分别为0~200的整数,p+q+r+s=3~200,各重复单元可以无规地键合。
4.如权利要求1~3中任一项所述的含有氟代氧化亚烷基的聚合物改性硅烷,其中,在所述式(1)中,Z为二有机亚甲硅烷基、二有机亚甲硅烷基彼此通过亚烷基键合而成的基团、2~10个硅原子的直链状、支链状或环状有机聚硅氧烷残基、或该硅氧烷残基与二有机亚甲硅烷基通过亚烷基键合而成的基团,Rf的分子量比支链全氟聚醚部分-(CF(CF3)CF2O)b-的分子量大。
5.如权利要求1~3中任一项所述的含有氟代氧化亚烷基的聚合物改性硅烷,其中,所述式(1)的水解性基团X选自碳原子数1~10的烷氧基、碳原子数2~10的烷氧基烷氧基、碳原子数1~10的酰氧基、碳原子数2~10的烯氧基及卤素基团。
6.如权利要求4所述的含有氟代氧化亚烷基的聚合物改性硅烷,其中,所述式(1)的水解性基团X选自碳原子数1~10的烷氧基、碳原子数2~10的烷氧基烷氧基、碳原子数1~10的酰氧基、碳原子数2~10的烯氧基及卤素基团。
7.一种表面处理剂,其含有权利要求1~6中任一项所述的含有氟代氧化亚烷基的聚合物改性硅烷和/或该含有氟代氧化亚烷基的聚合物改性硅烷的部分水解缩合物。
8.一种经权利要求7所述的表面处理剂处理过的物品。
9.一种经权利要求7所述的表面处理剂处理过的光学物品。
10.一种经权利要求7所述的表面处理剂处理过的触摸面板。
11.一种经权利要求7所述的表面处理剂处理过的防反射膜。
12.一种SiO2处理后的玻璃,其经权利要求7所述的表面处理剂处理过。
13.一种经权利要求7所述的表面处理剂处理过的钢化玻璃。
14.一种经权利要求7所述的表面处理剂处理过的石英基板。
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