[发明专利]频率和相位的多射频功率源控制有效
申请号: | 201410171657.4 | 申请日: | 2014-04-25 |
公开(公告)号: | CN104124130B | 公开(公告)日: | 2017-07-28 |
发明(设计)人: | 戴维·J·库莫;迈克尔·L·科克;丹尼尔·M·吉尔 | 申请(专利权)人: | MKS仪器有限公司 |
主分类号: | H01J37/32 | 分类号: | H01J37/32;H05H1/46 |
代理公司: | 北京德琦知识产权代理有限公司11018 | 代理人: | 康泉,宋志强 |
地址: | 美国马*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 频率 相位 射频 功率 控制 | ||
1.一种RF发生器,包括:
RF功率源;
传感器,联接至所述RF功率源;以及
传感器信号处理单元,联接至所述RF功率源且联接至所述传感器,所述传感器信号处理单元适于接收来自外部RF发生器源的输入并且生成用于控制所述RF发生器的相位和频率的控制信号,其中来自所述外部RF发生器源的所述输入包括所述外部RF发生器源操作的频率的缩放版本。
2.根据权利要求1所述的RF发生器,其中所述输入进一步包括相移。
3.根据权利要求1所述的RF发生器,其中所述RF发生器在连续波操作模式或脉冲操作模式下操作。
4.根据权利要求1所述的RF发生器,其中所述传感器信号处理单元包括现场可编程门阵列单元以及数字信号处理单元。
5.根据权利要求4所述的RF发生器,其中所述数字信号处理单元能操作为生成所述控制信号。
6.根据权利要求1所述的RF发生器,其中所述RF发生器改变由所述RF发生器输出的RF信号的振幅。
7.根据权利要求1所述的RF发生器,其中所述相位在至少两个相位之间变化。
8.根据权利要求7所述的RF发生器,其中所述频率是按值1缩放的。
9.根据权利要求1所述的RF发生器,其中所述相位被扫过预限定的范围。
10.一种RF系统,包括:
第一RF发生器,包括:
功率源,
传感器,联接至所述功率源,和
传感器信号处理单元,联接至所述功率源并联接至所述传感器,所述传感器信号处理单元适于接收来自外部源的输入并且生成第一控制信号,所述第一控制信号控制来自所述第一RF发生器的第一RF功率信号的第一相位和第一频率中至少之一;以及
第二RF发生器,能操作为从所述第一RF发生器接收第二控制信号,所述第二控制信号控制来自所述第二RF发生器的第二RF功率信号的第二相位和第二频率中至少之一,
其中所述传感器信号处理单元缩放所述第一频率来生成频率信息,并且所述第二控制信号包括所述频率信息。
11.根据权利要求10所述的RF系统,其中所述第二控制信号还包括相移信息。
12.根据权利要求10所述的RF系统,其中所述RF系统在连续波操作模式或脉冲操作模式下操作。
13.根据权利要求12所述的RF系统,其中所述RF系统改变由所述第一RF发生器或所述第二RF发生器输出的RF信号的振幅。
14.根据权利要求12所述的RF系统,其中所述第一RF功率信号与所述第二RF功率信号之间的相对相位在至少两个相位之间变化。
15.根据权利要求14所述的RF系统,其中所述第二频率是按值1缩放的。
16.根据权利要求12所述的RF系统,其中所述第一相位与所述第二相位之间的相对相位被扫过预限定的范围。
17.一种RF系统,包括:
第一RF发生器;以及
第二RF发生器,联接至所述第一RF发生器,所述第一RF发生器和所述第二RF发生器各自包括:
功率源,
传感器,联接至所述功率源,和
传感器信号处理单元,联接至所述功率源并联接至所述传感器,其中所述第一RF发生器的传感器信号处理单元控制所述第一RF发生器的第一相位和第一频率,所述第二RF发生器的传感器信号处理单元控制所述第二RF发生器的第二相位和第二频率,
其中所述第一RF发生器向所述第二RF发生器输出控制信号,并且其中所述控制信号包括频率成分,所述频率成分是相对于所述第一RF发生器的所述第一频率被缩放的频率。
18.根据权利要求17所述的RF系统,其中所述控制信号还包括相移信息。
19.根据权利要求17所述的RF系统,其中所述RF系统在连续波操作模式或脉冲操作模式下操作。
20.根据权利要求17所述的RF系统,其中所述RF系统改变由所述第一RF发生器或所述第二RF发生器输出的RF信号的振幅。
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