[发明专利]一种复合振膜及其制备方法在审
申请号: | 201410174168.4 | 申请日: | 2014-04-25 |
公开(公告)号: | CN103916801A | 公开(公告)日: | 2014-07-09 |
发明(设计)人: | 朱秉科 | 申请(专利权)人: | 瑞声光电科技(常州)有限公司 |
主分类号: | H04R7/06 | 分类号: | H04R7/06;H04R31/00 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 213167 *** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 复合 及其 制备 方法 | ||
1.一种复合振膜,其特征在于:所述复合振膜从上到下依次包括第一高分子材料层、石墨烯层、胶层和第二高分子材料层,所述第一高分子材料层与石墨烯层直接贴合,所述第二高分子材料层与石墨烯层之间通过所述胶层贴合。
2.根据权利要求1所述的复合振膜,其特征在于:所述第一高分子材料层和第二高分子材料层分别采用聚醚醚酮、聚萘二甲酸乙二醇酯、聚对苯二甲酸乙二醇酯、聚苯硫醚、聚芳酯中的任意一种或两种。
3.一种复合振膜的制备方法,其特征在于:其包括以下步骤:
S1:提供第一高分子材料层;
S2:提供石墨烯层;
S3:将该第一高分子材料层与石墨烯层的一表面贴合;
S4:提供第二高分子材料层,并在其表面涂胶,形成一具有胶层的第二高分子材料层;
S5:将所述第二高分子材料层的胶层与所述石墨烯层的另一表面贴合以形成四层结构的复合振膜。
4.根据权利要求3所述的复合振膜的制备方法,其特征在于:步骤S3中,为采用蒸镀工艺、物理气相沉积、化学气相沉积、溅镀、喷涂、或印刷中的任意一种方法将第一高分子材料层与石墨烯层贴合。
5.根据权利要求3或权利要求4所述的复合振膜的制备方法,其特征在于:所述两高分子材料层分别采用聚醚醚酮、聚萘二甲酸乙二醇酯、聚对苯二甲酸乙二醇酯、聚苯硫醚、聚芳酯中的任意一种或两种。
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