[发明专利]一种全息光栅三维主动稳定控制记录方法有效

专利信息
申请号: 201410176749.1 申请日: 2014-04-29
公开(公告)号: CN103955128B 公开(公告)日: 2017-04-12
发明(设计)人: 李朝明;吴建宏;陈新荣 申请(专利权)人: 苏州大学
主分类号: G03H1/12 分类号: G03H1/12;G02B5/18
代理公司: 苏州创元专利商标事务所有限公司32103 代理人: 陶海锋
地址: 215123 江苏省*** 国省代码: 江苏;32
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 一种 全息 光栅 三维 主动 稳定 控制 记录 方法
【说明书】:

技术领域

本发明涉及一种全息光栅三维主动稳定控制记录方法,用以实现大口径光栅长时间全息曝光记录。

背景技术

大口径脉冲压缩光栅是实现超快超强脉冲激光的关键元件。在超大功率拍瓦量级激光装置中,对光栅的口径需求已达米级。随着光栅口径的增大,干涉光路变得庞大,全息曝光时间将大大延长,当全息记录的干涉条纹密度比较高,如光栅周期在亚微米量级,光栅口径在米级尺度范围,全息记录干涉光场几十纳米运动变化的累积效应会严重影响全息光栅掩模的形貌。如何实现长时间全息记录过程中干涉光场的纳米级稳定成为米级口径光栅制造成败的关键。

发明内容

专利的发明目的是提供一种采用三维主动控制技术获得全息记录干涉光场相对稳定的方法,实现干涉光场与记录光栅之间的相对稳定,实现大口径光栅长时间全息曝光记录,用以制作优质的大口径全息光栅。

为达到上述发明目的,本发明采用的技术方案是:一种全息光栅三维主动稳定控制记录方法,包括下列步骤:

(1)在全息干涉记录光场中,在待放置主光栅干板的侧边设置两个参考光栅干板,然后同时对两块参考光栅干板进行曝光;

(2)对两块参考光栅进行显影操作,获得第一参考光栅和第二参考光栅;

(3)将获得的第一参考光栅和第二参考光栅原位放置到原记录光路中,记录光场将与两参考光栅形成莫尔条纹,微调参考光栅位置,获得数条较稀疏的莫尔条纹,并用摄像系统记录莫尔条纹;

(4)在全息记录光路中放置主光栅干板,打开干涉记录光,并用摄像系统记录下记录光场与两参考光栅形成的莫尔条纹图像,得到参考图像;

(5)摄像系统实时记录记录光场与两参考光栅形成的莫尔条纹图像,并与步骤(4)中参考图像比较,获得莫尔条纹图像移动信息,若图像一致,摄像系统继续记录莫尔条纹图像,若图像不一致,则调节第一反射镜沿着镜面法向一维平动,或者调节第一扩束器二维运动,实现实时控制莫尔条纹图像,使其与参考图像保持一致; 

(6)到达设定曝光时间,完成主光栅的全息记录,经显影,获得主光栅。

优选的技术方案,所述步骤(5)中采用微位移器调节第一反射镜沿着镜面法向一维平动,改变一束记录光的光程, 可以控制莫尔条纹的位相,从而控制干涉光场与主光栅之间的位相。

优选的技术方案,所述第一扩束器的二维运动,由垂直于光轴的X方向和Y方向运动构成:Y方向运动,改变记录光束的入射角,用于消除干涉条纹空间频率变化,控制其运动可以使第一参考光栅上的莫尔条纹角度发生倾斜变化;X方向运动,改变一束记录光束的俯仰角度,使干涉条纹发生旋转,控制其运动可以使第二参考光栅上的莫尔条纹疏密变化,消除干涉条纹相对记录光栅基板旋转。

进一步的技术方案,所述微位移器为压电陶瓷微位移器。

上文中,当第二参考光栅的莫尔条纹向上或向下移动,调节第一反射镜沿镜面法向一维前后平动,改变一束记录光的光程,可以控制莫尔条纹的位相,从而控制干涉光场与主光栅之间的位相,实现干涉光场位相补偿控制。

上文中,当第一参考光栅上的莫尔条纹角度发生倾斜变化时,调节第一扩束器Y方向运动,改变记录光束的入射角,用于消除干涉光场条纹空间频率变化,控制其运动可以使第一参考光栅上的莫尔条纹角度发生倾斜变化,实现干涉条纹空间频率控制。

上文中,当第二参考光栅上的莫尔条纹疏密变化时,调节第一扩束器X方向运动,改变一束记录光束的俯仰角度,使干涉条纹发生旋转,控制其运动可以使第二参考光栅上的莫尔条纹疏密发生变化,消除干涉光场条纹相对记录光栅基板的旋转,实现干涉条纹旋转控制。

由于上述技术方案运用,本发明与现有技术相比具有下列优点:

本发明通过三维主动稳定控制干涉光场,包括干涉光场位相补偿控制,干涉条纹空间频率控制,干涉条纹旋转控制,使得当记录光场相对光栅基板发生变化时,能在长时间曝光过程中实现实时动态补偿,提高大口径光栅全息记录的稳定性,从而能够获得优质的全息光栅。

附图说明

图1是莫尔条纹示意图;

图2是实施例一的干涉光场控制原理示意图;

图3是实施例一中第一参考光栅、第二参考光栅与主光栅分布示意图;

图4是实施例一中第一参考光栅、第二参考光栅与干涉光场形成的莫尔条纹示意图;

图5是实施例一中干涉光场的运动状态示意图,其中(a)干涉条纹位相变化,(b)干涉条纹旋转变化,(c)干涉条纹空频变化;

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于苏州大学,未经苏州大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201410176749.1/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top