[发明专利]防尘薄膜组件

说明书

技术领域

本发明涉及在制造半导体器件、集成电路封装、印刷电路板、液晶显示器或有机EL显示器等时作为防尘器使用的光刻技术用等的防尘薄膜组件。

背景技术

在大规模集成电路、超大规模集成电路等的半导体的制造或者液晶显示器等的制造过程中，要向半导体晶片或液晶用原板上照射光来形成电路图案，然而，这里存在这样的问题，即，当所用的光掩模或精密掩模(以下，仅记为光掩模)上附着了灰尘时，除了边缘变得不规整外，基底会变黑弄脏，从而导致尺寸、品质以及外观受损。

因此，这些作业通常是在无尘室里进行，但尽管如此，要保持光掩模总时清洁是很困难的。所以，通常在光掩模的表面上，作为防尘器贴附防尘薄膜组件之后进行曝光。这样一来，由于异物不直接附着在光掩模的表面而是附着于防尘薄膜上，所以在光刻时只要把焦点对准光掩模上的图案，防尘薄膜组件上的异物便与转印无关。

一般来讲，这种防尘薄膜组件由防尘薄膜组件框架和防尘薄膜构成，而在构成防尘薄膜组件的防尘薄膜组件框架的下端，形成有用于将防尘薄膜组件粘贴到光掩模上的、由聚丁烯树脂、聚醋酸乙烯树脂、丙烯酸树脂、有机硅树脂構成的粘着剂层以及用于保护该粘着剂层的离型层(隔离膜)。

而在防尘薄膜组件框架的另一端的表面上粘贴有防尘薄膜，该防尘薄膜通常使用透光性良好的纤维素酯或氟树脂等的材料制造而成。例如，专利文献1中记载了一种制造方法，是将纤维素酯溶解于有机溶剂中，然后将其浇注在平滑的玻璃上摊平，形成均匀的薄膜后进行干燥，从而制成防尘薄膜。另外，专利文献2中记载了一种醋酸丁酸纤维素树脂薄膜的成型方法。专利文献3中记载的方法是，溶解氟系聚合物，利用旋转涂布机将其涂布在平滑的平板上，从而形成均匀的防尘薄膜。

另外，专利文献4中记载了使用由二有机聚硅氧烷组成物构成的粘合剂将防尘薄膜固定于防尘薄膜组件框架；专利文献5中记载了使用有机硅类粘合剂将防尘薄膜粘贴于防尘薄膜组件框架。

专利文献

专利文献1:日本特开昭58-219023号公报

专利文献2:美国专利第4861402号说明书

专利文献3:日本特公昭63-27707号公报

专利文献4:日本特许第2945201号

专利文献5:日本特许第4185232号

发明内容

如上所述，防尘薄膜通过各种粘合剂粘贴到防尘薄膜组件框架上，但是，目前为止，在该粘贴时对于粘合层表面的形状丝毫未被考虑，通常是不特定形状或不规则形状。

因此，产生了涂布了粘合剂的防尘薄膜的一部分未粘合或一部分未接触等的问题。而且，由于这种粘合不良或接触不良导致粘合面积的下降，会引起防尘薄膜与防尘薄膜组件框架之间的粘合力降低，所以会产生防尘薄膜松弛，最坏的情况，防尘薄膜从防尘薄膜组件框架脱落的问题。此外，由于粘合层的形状不规则，如果防尘薄膜与防尘薄膜组件框架的粘合部分呈现斑状、波状等的不规则形状，由于包含有气泡，还会产生外观不良的问题。

因此，本发明鉴于以上问题而完成，目的在于提供一种通过设为适当的粘合层的截面形状而使其长期不产生松弛并且外观良好的、用于光刻技术等的防尘薄膜组件。

本发明人为达到上述目的进行了深入的探讨，结果发现，粘合层的截面形状的不同，会使防尘薄膜与防尘薄膜组件框架之间的粘合力及粘合后的外观产生很大差别。通过进一步的研究发现，若粘合剂层的截面形状为由曲率半径R10以上且R1000以下的凸曲线构成，粘合不良问题将得到解决，从而促成了本发明。

即，本发明是一种防尘薄膜组件，在防尘薄膜组件框架的一侧框架表面上，借助于涂敷在该框架表面上的粘合层粘贴有防尘薄膜，其特征在于，所述粘合层的与防尘薄膜组件框架的长方向直交的截面的与防尘薄膜相对侧的截面形状为由曲率半径R10以上且R1000以下的凸曲线构成。

并且，本发明的所述截面优选为大致弓形，在所述防尘薄膜组件框架的另一端的框架表面上，设有用于将防尘薄膜组件粘贴于基板上的粘着剂层和用于保护该粘着剂层的剥离层。

根据本发明，粘合不良或接触不良被消除，接触面积大，故防尘薄膜与防尘薄膜组件框架之间能够获得足够的粘合力，从而能够提供一种粘贴于防尘薄膜组件框架上的防尘薄膜长期不会松弛而且外观优良的防尘薄膜组件。

附图说明

图1是本发明的粘合层的截面形状为弓形的防尘薄膜组件的纵剖面图。

图2是图1的防尘薄膜组件的俯视图(顶视图)。

图3是比较例的粘合层的截面形状为曲率半径小的弓形的防尘薄膜组件的纵剖面图。