[发明专利]一种共溅射旋转靶材及其制备方法无效
| 申请号： | 201410181267.5 | 申请日： | 2014-04-30 |
| 公开（公告）号： | CN103938173A | 公开（公告）日： | 2014-07-23 |
| 发明（设计）人： | 黄常刚;李京波;李庆跃;吴宗泽;李凯;汪林望;吴海虹;李树深;夏建白;王臻 | 申请（专利权）人： | 浙江东晶电子股份有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/35 | 分类号： | C23C14/35 |
| 代理公司： | 金华科源专利事务所有限公司 33103 | 代理人： | 胡杰平 |
| 地址： | 321000 *** | 国省代码： | 浙江;33 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 溅射 旋转 及其 制备 方法 | ||
1.一种共溅射旋转靶材，其特征在于：包括旋转圆柱靶管及中心静止不动的磁铁。
2.根据权利要求1所述的共溅射旋转靶材，其特征在于：所述旋转圆柱靶管由不同形状的掺杂成份靶材单元和本体成份靶材单元以不同的形式分布在圆筒形支撑衬底上。
3.根据权利要求1或2所述的共溅射旋转靶材，其特征在于：所述的磁铁包括中心极靴及外围永磁体，极靴位于圆柱中心位置，永磁铁均匀安装于极靴的外围，圆柱靶管安装在极靴的外围。
4.根据权利要求2所述的共溅射旋转靶材，其特征在于：掺杂成份靶材单元和本体成份靶材单元以由多种形状构成，包括水平层状结构、斜向层状、竖直层状。
5.根据权利要求2所述的共溅射旋转靶材，其特征在于：掺杂成份靶材单元和本体成份靶材单元两者按照一定的排布规律分布。
6.一种共溅射旋转靶材的制备方法，其特征在于：
A、将掺杂成份和本体成份分别制备成分体的靶材；
B、将掺杂成份和本体成份靶材按照需要掺杂的浓度比例和形状切割靶材单元；
C、将切割后的靶材单元安装在圆筒形支撑衬底上，而圆筒形支撑衬底的中心放置静止不动的磁铁，制成共溅射靶材旋转靶管；
D、当磁控溅射工作时，旋转靶材带动了不同的靶材单元转动，并实现共溅射和共掺杂。
7.根据权利要求5所述的共溅射旋转靶材的制备方法，其特征在于：步骤A所述靶材将掺杂成份和本体成份分别采用浇注烧结或真空烧结的方法制备，两种靶材单元具有相同的内径。
8.根据权利要求5所述的共溅射旋转靶材的制备方法，其特征在于：步骤B切割时确保掺杂成份靶材单元和本体成份靶材单元切割位置形成互补关系，以保证两种靶材单元安装到一起之后形成完整的旋转靶材，而不会留下没有靶材的空位。
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