[发明专利]一种用于优化测量系统的灵敏度的方法有效
申请号: | 201410183276.8 | 申请日: | 2014-05-04 |
公开(公告)号: | CN105092479B | 公开(公告)日: | 2021-12-21 |
发明(设计)人: | 党江涛;许静仙;陈星 | 申请(专利权)人: | 睿励科学仪器(上海)有限公司 |
主分类号: | G01N21/21 | 分类号: | G01N21/21 |
代理公司: | 北京市金杜律师事务所 11256 | 代理人: | 郑立柱 |
地址: | 201203 上海市*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 用于 优化 测量 系统 灵敏度 方法 | ||
1.一种用于优化测量系统的灵敏度的方法,所述方法包括以下步骤:
-在实际测量之前,确定所述测量系统的可选择测量条件,并且通过模拟对待测样品的所述可选择测量条件进行敏感性分析以得到第一分析结果,所述第一分析结果与所述可选择测量条件的灵敏度有关;
-根据所述第一分析结果,从所述可选择测量条件中选择对测量最灵敏的测量条件,使得所述样品能够在对测量最灵敏的测量条件下进行所述实际测量,以便缩减硬件运动时间;
其中,所述测量系统的可选择测量条件包括以下条件中的至少一项:
-所述测量系统的主要控制部件是否具有多个入射角;
-所述测量系统的主要控制部件是否具有可旋转入射面方位角;
-所述测量系统的主要控制部件是否具有可旋转玻片;
-所述测量系统的主要控制部件是否具有可旋转起偏器或验偏器;
-所述测量系统的主要控制部件是否具有第一辅助光学元件;或者
-所述测量系统的主要控制部件是否具有第二辅助光学元件;
其中,当所述测量系统的可选择测量条件包括所述测量系统的主要控制部件具有多个入射角时,对所述待测样品进行入射角敏感性分析以便选择经优化的入射角并且使得样品在经优化的入射角的条件下进行测量。
2.根据权利要求1所述的方法,其中,所述第一辅助光学元件为衰减片和/或所述第二辅助光学元件为滤光片。
3.根据权利要求1所述的方法,其中,当所述测量系统的可选择测量条件为所述测量系统的主要控制部件具有可旋转入射面方位角时,根据对入射面方位角和所述样品的结构信息的分析选择方位角进行测量。
4.根据权利要求2所述的方法,其中,当所述测量系统的可选择测量条件为只有宽光谱和单入射角而无可旋转入射面方位角时并且在预定波段范围下所述待测样品的测量光谱不可取时,所述测量系统使用滤光片来选择测量时所使用的波长范围。
5.根据权利要求2所述的方法,其中,当所述测量系统具有衰减片并且入射光的能量超过某一阈值时,根据所述某一阈值选择第一衰减强度的衰减片。
6.根据权利要求5所述的方法,其中,所述第一衰减强度为50%或者20%。
7.根据权利要求4所述的方法,其中,当在敏感性分析过程中发现入射光中的第一波长的光谱的能量大于某一阈值且所述第一波长的光谱对测量的敏感性没有帮助时,针对所述第一波长选择第一滤光片来滤除所述第一波长的光谱。
8.根据权利要求7所述的方法,其中,所述第一滤光片为带通滤光片。
9.根据权利要求1所述的方法,其中,当所述测量系统的可选择测量条件中无辅助光学元件而所述待测样品的反射率超过某一阈值时,根据由所述样品所模拟计算出的能量曲线选择验偏器方位角、转动频率、每个周期采集的能量次数以便得到椭偏参数。
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