[发明专利]一种膜厚测量方法及装置、涂覆机在审
申请号: | 201410184440.7 | 申请日: | 2014-05-04 |
公开(公告)号: | CN103983200A | 公开(公告)日: | 2014-08-13 |
发明(设计)人: | 肖宇;袁剑峰;吴洪江;董明;冯贺 | 申请(专利权)人: | 京东方科技集团股份有限公司;北京京东方显示技术有限公司 |
主分类号: | G01B11/06 | 分类号: | G01B11/06;B05C11/00 |
代理公司: | 北京银龙知识产权代理有限公司 11243 | 代理人: | 许静;黄灿 |
地址: | 100015 *** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 测量方法 装置 涂覆机 | ||
1.一种膜厚测量装置,用于测量测试基板上形成的湿膜厚度,其特征在于,包括:
光源,发出的光线经过所述测试基板上的湿膜后射出;
光感单元,用于接收所述光源射出的光线,输出相应的感应信号;
参数检测值获取单元,用于接收所述光感单元输出的感应信号,根据所述感应信号获取所述光源发出的光线经过测试基板上的湿膜后的识别参数检测值,所述识别参数检测值与湿膜的厚度相关;
计算单元,用于根据所述识别参数检测值计算出湿膜的厚度。
2.权利要求1所述的膜厚测量装置,其特征在于,所述计算单元包括:
数据库,用于存储多组识别参数统计值,以及与每组识别参数统计值对应的膜层厚度;
匹配模块,将所述识别参数检测值与所述数据库中的多组识别参数统计值分别进行比较,从所述多组识别参数统计值中确定与所述识别参数检测值匹配的一组识别参数统计值;
确定模块,用于确定所述识别参数检测值对应的湿膜厚度为:与所述识别参数检测值匹配的一组识别参数统计值对应的湿膜厚度。
3.权利要求1所述的膜厚测量装置,其特征在于,还包括:
光偏转单元,用于接收所述光源射出的光线,并将接收到的光线进行投射;
所述光感单元用于接收所述光偏转单元投射的光线。
4.根据权利要求3所述的膜厚测量装置,其特征在于,所述光偏转单元由至少一个平面镜组成,所述平面镜用于接收所述光源射出的光线,并将接收到的光线进行投射。
5.根据权利要求1-4任一项所述的膜厚测量装置,其特征在于,所述光源为激光源。
6.根据权利要求5所述的膜厚测量装置,其特征在于,所述湿膜为彩膜树脂层;
所述光源为红外激光源。
7.根据权利要求1-4任一项所述的膜厚测量装置,其特征在于,所述识别参数检测值为光透过率。
8.一种涂覆机,包括用于在测试基板上形成湿膜的喷嘴,其特征在于,还包括权利要求1-7任一项所述的膜厚测量装置。
9.根据权利要求8所述的涂覆机,其特征在于,所述膜厚测量装置与所述喷嘴的位置相对固定。
10.根据权利要求9所述的涂覆机,其特征在于,所述膜厚测量装置的光源和光感单元位于所述测试基板的相对侧,且位置对应。
11.根据权利要求10所述的涂覆机,其特征在于,在喷嘴相对测试基板运动的方向上,所述光源和光感单元位于喷嘴的后方。
12.根据权利要求9所述的涂覆机,其特征在于,所述膜厚测量装置还包括光偏转单元;
所述膜厚测量装置的光源和光感单元位于所述测试基板的同侧;
所述光源和光偏转单元位于所述测试基板的相对侧,且位置对应。
13.根据权利要求12所述的涂覆机,其特征在于,所述光源和光感单元位于所述喷嘴的两侧;
在喷嘴相对测试基板运动的方向上,所述光源和光偏转单元位于喷嘴的后方。
14.根据权利要求12所述的涂覆机,其特征在于,所述光偏转单元包括:
第一平面镜,与所述光源的位置对应,用于接收所述光源射出的光线,并进行反射;
第二平面镜,用于接收所述第一平面镜反射的光线,并进行反射;
所述光感单元用于接收所述第二平面镜反射的光线。
15.一种测量基板上形成的湿膜厚度的方法,其特征在于,包括:
打开一光源,所述光源发出的光线经过测试基板上的湿膜后射出;
感应所述光源射出的光线,输出相应的感应信号;
根据所述感应信号获取所述光源发出的光线经过测试基板上的湿膜后的识别参数检测值,所述识别参数检测值与湿膜的厚度相关;
根据所述识别参数检测值计算出湿膜的厚度。
16.根据权利要求15所述的方法,其特征在于,所述根据所述识别参数检测值计算出湿膜的厚度的步骤包括:
预先设置多组识别参数统计值,以及与每个识别参数统计值对应的膜层厚度;
将所述识别参数检测值与所述数据库中的多组识别参数统计值分别进行比较,从所述多组识别参数统计值中确定与所述识别参数检测值匹配的一组识别参数统计值;
确定所述识别参数检测值对应的湿膜厚度为:与所述识别参数检测值匹配的一组识别参数统计值对应的湿膜厚度。
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