[发明专利]一种抛光砖抛釉砖加工工艺

权利要求书

1.一种抛光砖抛釉砖加工工艺，其特征在于，包括：抛光—水洗—风干—洁亮—第一次防污—磨边—水洗—风干—对色、分级—第二次防污—包装；其中，所述洁亮是指在风干后的砖体表面涂布一层二氧化硅溶胶，二氧化硅溶胶经失水后聚合成玻璃体填充在抛光砖面层的孔洞内，形成光滑的镜面；

所述第一次防污是指在洁亮后的砖体表面涂布不足量的防污液，充当工序间的临时保护；

所述第二次防污是指在砖体表面涂布防污液形成永久保护。

2.根据权利要求1所述的一种抛光砖抛釉砖加工工艺，其特征在于，所述二氧化硅溶胶利用正硅酸乙酯，乙醇，去离子水和催化剂反应制备而成。

3.根据权利要求1所述的一种抛光砖抛釉砖加工工艺，其特征在于，所述二氧化硅溶胶的固含量为5-30％。

4.根据权利要求1所述的一种抛光砖抛釉砖加工工艺，其特征在于，第一次防污时防污液的涂布量不超过抛光砖对防污液吸收总量的80％，第一次防污与第二次防污所用防污液总量不超过抛光砖对防污液吸收总量的100％。

5.根据权利要求1所述的一种抛光砖抛釉砖加工工艺，其特征在于，所述防污液由两种能发生聚合反应的有机硅油混合而成，其中一种有机硅油为含氢硅油，另一种有机硅油为烷基改性硅油，聚醚改性硅油，环氧改性硅油，羟基改性硅油中的一种。

6.根据权利要求1所述的一种抛光砖抛釉砖加工工艺，其特征在于，所述防污液为溶剂型防污液，该溶剂型防污液按重量份计包括以下原料：

含氢硅油，15-20份；

氨基硅烷，0.5-2.5份；

120号溶剂汽油，100份；

200号溶剂汽油或溶剂汽油D-40，0-4份；

氨基硅油，3-5份。

7.根据权利要求1所述的一种抛光砖抛釉砖加工工艺，其特征在于，所述洁亮工序是通过多组加压磨盘连续抛磨来实现的，所述加压磨盘的工作压力为1-5公斤力/平方厘米，每块抛光砖经过加压磨盘的数量为3-40组。