[发明专利]双面消影氧化铟锡磁控溅射镀膜生产线

说明书

技术领域

本发明涉及一种导电膜生产线，尤其是一种结构简单可靠、操作方便、镀膜效果好的双面消影氧化铟锡磁控溅射镀膜生产线。

背景技术

目前，双面消影触摸屏的导电膜多为通过依次设置的进口真空腔体、工艺腔体和出口真空腔体完成，功能单一，效率低下。

发明内容

为解决上述问题，本发明提供了一种结构简单可靠、操作方便、效率高的双面消影氧化铟锡磁控溅射镀膜生产线。

实现本发明目的的双面消影氧化铟锡磁控溅射镀膜生产线，包括机架，所述机架上依次设置有进口真空腔体、进口缓冲真空腔体、进口过渡腔体、工艺真空腔体、出口真空腔体、出口缓冲真空腔体和出口过渡腔体；

所述机架上、贯穿上述腔体设置有触摸屏基片输送带；

所述工艺真空腔体为9个，所述每个工艺真空腔体都布置有2对阴极，所述9个工艺真空腔体可布置18对阳极，所述18对阳极中，含有18对Nb2Ox阳极；或1到8对SiOx阳极；或1到6对Ito阳极；

所述进口真空腔体内配备有1到2组低真空抽气系统；

所述进口缓冲真空腔体和出口缓冲真空腔体内配备1到2组高真空抽气系统；

所述工艺真空腔体内配备2到3组维持高真空抽气系统。

本生产线结构合理，功能先进，工作效率高，有利于推广使用。

附图说明

图1为本发明的双面消影氧化铟锡磁控溅射镀膜生产线的结构示意图。

具体实施方式

如图1所示，本发明所述的双面消影氧化铟锡磁控溅射镀膜生产线，包括机架8，所述机架8上依次设置有进口真空腔体1、进口缓冲真空腔体2、进口过渡腔体3、工艺真空腔体4、出口真空腔体5、出口缓冲真空腔体6和出口过渡腔体7；

所述机架8上、贯穿上述腔体设置有触摸屏基片输送带9；

所述工艺真空腔体4为9个，所述每个工艺真空腔体9都布置有2对阴极，所述9个工艺真空腔体9可布置18对阳极，所述18对阳极中，含有18对Nb2Ox阳极；或1到8对SiOx阳极；或1到6对Ito阳极；

所述进口真空腔体1内配备有1到2组低真空抽气系统；

所述进口缓冲真空腔体2和出口缓冲真空腔体6内配备1到2组高真空抽气系统；

所述工艺真空腔体4内配备2到3组维持高真空抽气系统。

本生产线结构合理，功能先进，工作效率高，有利于推广使用。

上面所述的实施例仅仅是对本发明的优选实施方式进行描述，并非对本发明的范围进行限定，在不脱离本发明设计精神前提下，本领域普通工程技术人员对本发明技术方案做出的各种变形和改进，均应落入本发明的权利要求书确定的保护范围内。