[发明专利]电致化学抛光方法

权利要求书

1.一种电致化学抛光方法，其特征在于，包括以下步骤：配制含有电活性中介体的工作液；

将工作电极工作面和工件表面浸入工作液中，所述工作电极工作面与工件表面平行相对设置，所述工作电极工作面具有小于1μm的平整度和小于0.05μm的粗糙度；

启动电源给工作液中的工作电极和辅助电极通电，使工作电极工作面通过电化学作用产生刻蚀剂，控制工作电极和工件表面间隙为0.05μm～20μm，进行扩散控制的选择性刻蚀，实现工件表面抛光；

其中所述电活性中介体为经过电化学反应能转变成刻蚀剂的物质，所述刻蚀剂为能与工件发生化学反应的离子或者自由基基团。

2.根据权利要求1所述电致化学抛光方法，其特征在于，所述工作液还包括pH调节剂、抑制剂和粘度调节剂中的一种或多种。

3.根据权利要求2所述电致化学抛光方法，其特征在于，所述抑制剂为能通过物理吸附和/或化学吸附于工件表面的有机分子或者无机分子，从而保护未加工区域工件不被化学腐蚀。

4.根据权利要求2所述电致化学抛光方法，其特征在于，所述pH调节剂为硫酸、硝酸、盐酸、醋酸、氢氧化钠和氢氧化钾中的一种或多种，所述工作液中pH调节剂的浓度为0.01mmol/L～2mol/L。

5.根据权利要求2所述电致化学抛光方法，其特征在于，所述工作液中粘度调节剂为甘油或蔗糖，所述工作液中粘度调节剂的质量分数小于80％。

6.根据权利要求1或2所述电致化学抛光方法，其特征在于，当工件为铜材质时，所述工作液包括电活性中介体、抑制剂和pH调节剂，所述电活性中介体为水解后可生成Fe²⁺、Ru²⁺、Fe的络合物或Ru的络合物的盐物质，所述电活性中介体浓度为0.01mmol/L～1mol/L；所述抑制剂为苯并三唑和/或其衍生物，抑制剂在工作液中的浓度为0.1mmol/L～0.05mol/L；所述pH调节剂为硫酸、盐酸和醋酸，所述pH调节剂在工作液中的浓度为0.001mmol/L～5mol/L。

7.根据权利要求1所述电致化学抛光方法，其特征在于，所述平面工作电极为铂、金、铱、钨或碳电极；或在平整度小于1μm粗糙度小于0.05μm的单晶硅、石英晶体或玻璃基底上通过镀膜、热解碳化有机高分子聚合物或晶体外延生长制备的电极。

8.根据权利要求1或7所述电致化学抛光方法，其特征在于，所述工作电极的非工作表面包覆有绝缘层。