[发明专利]一种溅射设备

权利要求书

1.一种溅射设备，该溅射设备包括：

处理腔室(2)，该处理腔室设置成进行沉积处理；

基板保持器(7)，该基板保持器布置在所述处理腔室中，并设置成将基板布置于该基板保持器上；

靶保持器(6)，该靶保持器布置在所述处理腔室中；

闸板(19)，该闸板能够运动成采取屏蔽状态和后退状态中的一个，在该屏蔽状态中，所述闸板屏蔽在所述基板保持器和所述靶保持器之间的间隙，在该后退状态中，所述闸板从在所述基板保持器和所述靶保持器之间的间隙后退；

驱动装置(32)，用于驱动所述闸板；

闸板容纳单元(23)，该闸板容纳单元有开口部分(303)，闸板将通过该开口部分伸出至该处理腔室并从该处理腔室后退，且构造成容纳处于后退状态的所述闸板；以及

气体引入管(161)构造成将气体引入处理腔室中；

其中，该气体引入管布置成使得气体引入闸板容纳单元且从该气体引入管引入闸板容纳单元的气体通过闸板容纳单元的开口部分引入至该处理腔室。

2.根据权利要求1所述的溅射设备，其中：气体引入管布置在所述闸板容纳单元的开口部分的相对侧上。

3.根据权利要求1所述的溅射设备，还包括构造成用于测量所述处理腔室中的压力的测量装置(181)，该测量装置布置在所述闸板容纳单元中。

4.根据权利要求1所述的溅射设备，其中：所述靶保持器包括相对屏蔽件，该相对屏蔽件布置在相对于所述基板保持器的基板安装位置偏离的位置处，并大致与所述基板保持器相对，所述相对屏蔽件包括形成于该相对屏蔽件中的第一排气通路，以便与排气口连通。

5.根据权利要求4所述的溅射设备，其中：所述第一排气通路有迷宫形形状。

6.根据权利要求1所述的溅射设备，其中：所述闸板容纳单元和所述屏蔽部件相互形成一体。

7.根据权利要求1所述的溅射设备，其中：所述闸板容纳单元和所述屏蔽部件相互分开地提供，所述屏蔽部件可拆卸地安装在所述闸板容纳单元上。

8.根据权利要求1所述的溅射设备，其中：所述靶保持器包括相对屏蔽件，该相对屏蔽件布置在相对于所述基板保持器的基板安装位置偏离的位置处，并大致与所述基板保持器相对，柱形的第一屏蔽部件(40a)形成在该处理腔室的侧壁中，第二屏蔽件(40b)和第三屏蔽件(22)形成在开口部分下面的位置处；

第一排气通路(401)形成于第一屏蔽件(40a1)和第二屏蔽件(40b)之间；

第二排气通路(403)形成于第一屏蔽件(40a2)和第三屏蔽件(22)之间；

第一排气通路的排气传导性高于第二排气通路的排气传导性。

9.根据权利要求1所述的溅射设备，其中：当基板闸板处于后退状态时闸板容纳单元的气体引入开口部分(162)的位置在它的位置的相对侧上。

10.根据权利要求9所述的溅射设备，其中：从闸板容纳单元至离子体的空间的排气传导性高于气体引入管和气体引入开口部分的间隙的排气传导性，离子体的空间由在处理腔室中的屏蔽件和靶包围。

11.根据权利要求9所述的溅射设备，其中：间隙形成于气体引入管和气体引入开口部分之间；

气体引入管和气体引入开口部分布置在闸板容纳单元中以便该间隙的距离小于闸板容纳单元的尺寸。

12.根据权利要求9所述的溅射设备，其中：闸板容纳单元由盖板(23a)和框架体(23b)形成，气体引入开口部分布置在框架体中以便在气体引入管之间形成间隙，且该间隙的距离小于盖板和框架体之间的距离。