[发明专利]半化学半机械密封式超低氧含量雾化设备在审
申请号: | 201410188894.1 | 申请日: | 2014-04-30 |
公开(公告)号: | CN105014086A | 公开(公告)日: | 2015-11-04 |
发明(设计)人: | 施立新;施涧翀 | 申请(专利权)人: | 施立新;施涧翀 |
主分类号: | B22F9/08 | 分类号: | B22F9/08 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 362000 福建省*** | 国省代码: | 福建;35 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 化学 机械 密封 低氧 含量 雾化 设备 | ||
本发明专利涉及一种雾化设备,特别是涉及一种水雾化或水气雾化设备。
1.本设备必须同时包括如下三点的技术特征。
(1)本设备具有采用半化学如加入CO等还原性气体(包括加入惰性的气体或直接抽真空,但会导致氧含量略高)及半机械密封如采用移动隔板的方式以降低熔炼室中氧含量的特点。
(2)本设备采用机械密封方式以隔开熔炼室和雾化室。该密封方式具备允许金属溶液进入雾化室同时又可防止水汽进入熔炼室的特点,避免了可能发生爆炸。同时避免了雾化室中的水气进入熔炼室,以免影响抽真空。
(3)本设备具有把熔炼设备装在密封的容器中的特点。然后采用抽真空的方式抽走熔炼室的全部空气,并在必要时采用惰性气体或还原性气体来进行保护。
2.说明书中举例所用的还原性气体为CO气体和NH3气体。但本专利所包括的还原性气体并不局限于上述两种。
3.用来完全隔开熔炼室和雾化室的方法并不局限于说明书中所举例的采用移动隔板的方式。
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