[发明专利]基于石墨烯的新型电光调制器的结构设计在审

专利信息
申请号: 201410192797.X 申请日: 2014-05-08
公开(公告)号: CN103969850A 公开(公告)日: 2014-08-06
发明(设计)人: 张晓霞;王建敏;刘永 申请(专利权)人: 电子科技大学
主分类号: G02F1/035 分类号: G02F1/035
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 610054 四川*** 国省代码: 四川;51
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摘要:
搜索关键词: 基于 石墨 新型 电光 调制器 结构设计
【权利要求书】:

1.基于石墨烯的Mach-Zehnder干涉型电光调制器结构设计,包括二氧化硅基底、硅波导、三层交叉的石墨烯层、隔离层以及电极,当通过电极在光波导两臂施加不同的电压时,石墨烯的费米能级会发生不同程度的改变,导致光波导的有效折射率也会随之发生不同的改变,最终在第二个Y分支处发生干涉调制。

2.根据权利要求1所述的基于石墨烯的Mach-Zehnder干涉型电光调制器结构设计,其特征在于,所述二氧化硅基底厚度为450nm。

3.根据权利要求1所述的基于石墨烯的Mach-Zehnder干涉型电光调制器结构设计,其特征在于,所述硅波导平板层厚度为90nm,脊形波导宽390nm,总厚度为335nm。

4.根据权利要求1、3所述的基于石墨烯的Mach-Zehnder干涉型电光调制器结构设计,其特征在于,所述石墨烯层位于脊波导70nm高处,其结构为三层交叉的电容器结构,分别与电极相连,其中,中间的一层石墨烯接地,每层石墨烯厚度为0.7nm。

5.根据权利要求1、3、4所述的基于石墨烯的Mach-Zehnder干涉型电光调制器结构设计,其特征在于,所述隔离层位于硅波导和每层石墨烯层之间,隔离层每层厚度为5nm。

6.根据权利要求1所述的基于石墨烯的Mach-Zehnder干涉型电光调制器结构设计,其特征在于,所述金属电极和硅波导间距为550nm。

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