[发明专利]具有合适原子分布的I‑III‑VI2化合物吸收件的光伏器件制造方法有效

专利信息
申请号: 201410193381.X 申请日: 2014-05-09
公开(公告)号: CN104882511B 公开(公告)日: 2017-02-15
发明(设计)人: 黄乾燿 申请(专利权)人: 台湾积体电路制造股份有限公司
主分类号: H01L31/032 分类号: H01L31/032;H01L21/02
代理公司: 北京德恒律治知识产权代理有限公司11409 代理人: 章社杲,孙征
地址: 中国台*** 国省代码: 台湾;71
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 具有 合适 原子 分布 iii vi2 化合物 吸收 器件 制造 方法
【权利要求书】:

1.一种用于形成光伏器件的吸收层的方法,包括:

在衬底的之上形成金属前体层;

将含硫前体沉积到所述金属前体层上;以及

在沉积所述含硫前体的步骤之后,将含硒前体沉积到所述金属前体层上。

2.根据权利要求1所述的方法,其中,所述金属前体层包括选自由第I族元素、第III族元素、它们的合金或任意组合所组成的组中的材料。

3.根据权利要求2所述的方法,其中,

所述第I族元素选自由Cu和Ag组成的组。

4.根据权利要求2所述的方法,其中,

所述第III族元素选自由Al、Ga、In和Tl组成的组。

5.根据权利要求2所述的方法,其中,

所述金属前体层还包括硒(Se)。

6.根据权利要求1所述的方法,其中,在将所述含硫前体沉积到所述金属前体层上的步骤中:

所述含硫前体包括硫化氢或硫元素蒸汽;以及

在介于300℃至550℃范围内的第一温度下沉积所述含硫前体。

7.根据权利要求1所述的方法,其中,在低于沉积所述含硫前体的第一温度的至少一个温度下,将含硒前体沉积到所述金属前体层上。

8.根据权利要求7所述的方法,其中,将含硒前体沉积到所述金属前体层上的步骤包括:

在第二温度下沉积所述含硒前体;以及

在不同于所述第二温度的第三温度下沉积所述含硒前体。

9.一种用于制造光伏器件的方法,包括:

在衬底之上形成背面接触层;以及

在所述衬底之上形成包括吸收材料的吸收层,其中,形成所述吸收层的步骤包括:

在衬底之上形成金属前体层;

将含硫前体沉积到所述金属前体层上;以及

在沉积所述含硫前体的步骤之后,将含硒前体沉积到所述金属前体层上。

10.一种光伏器件,包括:

衬底;

背面接触层,设置在所述衬底的上方;以及

吸收层,包括设置在所述背面接触层之上的吸收材料,其中,所述吸收层的底面基本不包括硫,并且所述吸收层的上表面上的硫与硒和硫的总量的原子比例介于0.1至1.0的范围内。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于台湾积体电路制造股份有限公司,未经台湾积体电路制造股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201410193381.X/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top