[发明专利]具有合适原子分布的I‑III‑VI2化合物吸收件的光伏器件制造方法有效
申请号: | 201410193381.X | 申请日: | 2014-05-09 |
公开(公告)号: | CN104882511B | 公开(公告)日: | 2017-02-15 |
发明(设计)人: | 黄乾燿 | 申请(专利权)人: | 台湾积体电路制造股份有限公司 |
主分类号: | H01L31/032 | 分类号: | H01L31/032;H01L21/02 |
代理公司: | 北京德恒律治知识产权代理有限公司11409 | 代理人: | 章社杲,孙征 |
地址: | 中国台*** | 国省代码: | 台湾;71 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 具有 合适 原子 分布 iii vi2 化合物 吸收 器件 制造 方法 | ||
1.一种用于形成光伏器件的吸收层的方法,包括:
在衬底的之上形成金属前体层;
将含硫前体沉积到所述金属前体层上;以及
在沉积所述含硫前体的步骤之后,将含硒前体沉积到所述金属前体层上。
2.根据权利要求1所述的方法,其中,所述金属前体层包括选自由第I族元素、第III族元素、它们的合金或任意组合所组成的组中的材料。
3.根据权利要求2所述的方法,其中,
所述第I族元素选自由Cu和Ag组成的组。
4.根据权利要求2所述的方法,其中,
所述第III族元素选自由Al、Ga、In和Tl组成的组。
5.根据权利要求2所述的方法,其中,
所述金属前体层还包括硒(Se)。
6.根据权利要求1所述的方法,其中,在将所述含硫前体沉积到所述金属前体层上的步骤中:
所述含硫前体包括硫化氢或硫元素蒸汽;以及
在介于300℃至550℃范围内的第一温度下沉积所述含硫前体。
7.根据权利要求1所述的方法,其中,在低于沉积所述含硫前体的第一温度的至少一个温度下,将含硒前体沉积到所述金属前体层上。
8.根据权利要求7所述的方法,其中,将含硒前体沉积到所述金属前体层上的步骤包括:
在第二温度下沉积所述含硒前体;以及
在不同于所述第二温度的第三温度下沉积所述含硒前体。
9.一种用于制造光伏器件的方法,包括:
在衬底之上形成背面接触层;以及
在所述衬底之上形成包括吸收材料的吸收层,其中,形成所述吸收层的步骤包括:
在衬底之上形成金属前体层;
将含硫前体沉积到所述金属前体层上;以及
在沉积所述含硫前体的步骤之后,将含硒前体沉积到所述金属前体层上。
10.一种光伏器件,包括:
衬底;
背面接触层,设置在所述衬底的上方;以及
吸收层,包括设置在所述背面接触层之上的吸收材料,其中,所述吸收层的底面基本不包括硫,并且所述吸收层的上表面上的硫与硒和硫的总量的原子比例介于0.1至1.0的范围内。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的