[发明专利]一种偏光结构及其制作方法、显示面板

权利要求书

1.一种偏光结构，其特征在于，包括偏光层，所述偏光层包括：

透明介质膜；以及

分布于所述透明介质膜中的定向排列的纳米金属线阵列。

2.根据权利要求1所述的偏光结构，其特征在于，所述纳米金属线阵列分多层设置，每一层包括多条定向设置的纳米金属线，相邻层的纳米金属线对应设置。

3.根据权利要求1所述的偏光结构，其特征在于，所述透明介质膜由二氧化硅或树脂形成。

4.根据权利要求1所述的偏光结构，其特征在于，还包括：

基板，所述偏光层设置于所述基板上，所述基板为衬底基板、阵列基板或彩膜基板。

5.一种显示面板，其特征在于，包括相对设置的如权利要求1-4任一项所述的偏光结构，其中，第一个偏光结构的偏光层和第二个偏光结构的偏光层的光线吸收轴正交。

6.一种偏光结构的制作方法，其特征在于，包括：

形成偏光层的步骤，所述偏光层包括：透明介质膜以及分布于所述透明介质层膜中的定向排列的纳米金属线阵列。

7.根据权利要求6所述的偏光结构的制作方法，其特征在于，所述形成偏光层的步骤具体包括：

步骤S111：采用构图工艺形成纳米金属线阵列；

步骤S112：在所述纳米金属线阵列上形成透明介质膜；

当需要形成分多层设置的纳米金属线阵列时，重复并依次执行步骤S111和步骤S112，直至形成多层设置的纳米金属线阵列。

8.根据权利要求6所述的偏光结构的制作方法，其特征在于，所述形成偏光层的步骤具体包括：

采用聚乙烯吡咯烷酮诱导工艺形成纳米金属线；

将所述纳米金属线分散到所述透明介质溶液中；

将包含有所述纳米金属线的透明介质溶液涂布在所述衬底基板上，并进行氮气扩散或拉伸处理，形成定向排列的纳米金属线阵列。

9.根据权利要求8所述的偏光结构的制作方法，其特征在于，采用聚乙烯吡咯烷酮诱导工艺形成纳米金属线的步骤具体包括：

将金属硝酸物融入乙二醇溶液得到第一溶液；

将聚乙烯吡咯烷酮融入乙二醇溶液得到第二溶液；

将所述第一溶液和所述第二溶液滴注到第一温度的乙二醇溶液中，在搅拌下反应，形成纳米银线，所述第一温度大于或等于160度。