[发明专利]基板处理系统及其处理方法

权利要求书

1.一种基板处理系统，其至少包括相邻设置的一输送单元和一插片单元，所述插片单元包括一具有收容空间的本体和一插片机构，所述插片机构位于所述本体与输送单元之间，所述本体具有面向所述输送单元的第一侧，所述输送单元用于装载所述基板并将所述基板输送至所述本体的第一侧，所述插片机构用于从所述输送单元上抓取所述基板，并将所述基板放置于所述本体的收容空间内；

其特征在于：所述输送单元包括一传动装置和位于所述传动装置另一侧的第一翻转装置，所述第一翻转装置用于接收所述基板，并将所述基板翻转至所述传动装置上；

所述第一翻转装置包括一底板、固定在所述底板上的一第一支架以及与所述第一支架连接的第二支架，所述第一支架具有远离所述底板的第一端，所述第二支架在所述第一端与所述第一支架活动连接，所述第二支架用于承载所述基板并将所述基板翻转至所述传动装置上。

2.如权利要求1所述的基板处理系统，其特征在于：所述基板具有第一表面，所述第二支架具有与所述基板第一表面接触的第二表面，所述第一表面的面积至少为所述第二表面面积的3/4。

3.如权利要求2所述的基板处理系统，其特征在于：所述传动装置沿传动方向的边缘至少具有一导向模块，位于所述传动装置同一侧的所述导向模块在同一条直线上，所述导向模块间具有相同的间距。

4.如权利要求3所述的基板处理系统，其特征在于：所述输送单元还包括一位于所述传动装置一侧的一第二翻转装置，所述插片机构包括一吸附模块，所述吸附模块用于吸附位于所述第二翻转装置上的基板，并将所述基板移动至所述本体的收容空间内，所述本体邻近所述输送单元的一侧具有一第四表面，所述传动装置与所述基板的接触面为第三表面，所述第四表面与所述第三表面垂直。

5.如权利要求4所述的基板处理系统，其特征在于，所述吸附模块与所述导向模块与所述基板接触的表面分别具有一缓冲层，制作所述缓冲层的材料的弹性系数均大于所述吸附模块、导向模块与所述基板接触的表面材料的弹性系数。

6.一种基板处理方法，其至少包括如下步骤：

提供一基板和一基板处理系统，所述基板处理系统包括相邻设置的一输送单元和一插片单元，所述插片单元包括一具有收容空间的本体和一插片机构，所述插片机构位于所述本体与输送单元之间，所述本体具有面向所述输送单元的第一侧；

所述输送单元装载所述基板并将所述基板输送至本体的第一侧；

所述插片机构将所述基板从所述输送单元上抓取，并将所述基板放置于所述本体的收容空间内；

其特征在于：所述输送单元还包括一传动装置和位于所述传动装置另一侧的第一翻转装置，所述第一翻转装置用于接收所述基板，并将所述基板翻转至所述传动装置上；

所述第一翻转装置包括一底板、固定在所述底板上的一第一支架以及与所述第一支架连接的第二支架，所述第一支架具有远离所述底板的第一端，所述第二支架在所述第一端与所述第一支架活动连接，所述第二支架用于承载所述基板并将所述基板翻转至所述传动装置上。