[发明专利]一种液晶光掩膜及其应用

权利要求书

1.一种高性能液晶光掩膜，其特征在于，所述光掩膜包括，成像控制器，均光层，导光层，第一光学偏转片，液晶层和第二光学偏转片；所述所述液晶层夹设于第一光学偏转片与第二光学偏转片之间；第一光学偏转片与液晶层接触的表面上设置有第一透明电极层；第二光学偏转片与液晶层接触的表面上设置有第二透明导电层；所述第一光学偏转片与第二光学偏转片的偏振方向夹角为90度；所述导光层设置于第一光学偏转片的光入射的一侧；所述均光层设置于导光层的光入射的一侧；所述成像控制器用于在第一透明电极层和第二透明电极层施加相应电信号，使所述液晶层中相应区域的液晶发生偏转，形成所述目标图像，遮掩曝光光源照射光线；未发生液晶偏转的区域成光透过状态。

2.根据权利要求1所述的高性能液晶光掩膜，其特征在于，所述导光层将入射光整理为平行光，所述平行光入射第一光学偏转片。

3.根据权利要求1-2所述的高性能液晶光掩膜，其特征在于，所述导光层与第一光学偏转片形成物理接触，所述物理接触依靠静电力或胶黏作用实现。

4.根据权利要求1-3所述的高性能液晶光掩膜，其特征在于，所述均光层将入射光调整为散射光。

5.根据权利要求1-4所述的高性能液晶光掩膜，其特征在于，所述导光层与第一光学偏转片之间形成真空层，用于降低导光层与第一光学偏转片的热传导。

6.根据权利要求1-5所述的高性能液晶光掩膜，其特征在于，所述液晶层为扭曲向列型液晶层。

7.根据权利要求1-6所述的高性能液晶光掩膜，其特征在于，所述导光层为菲涅耳透镜。

8.根据权利要求1-7所述的高性能液晶光掩膜，其特征在于，所述光掩膜还包括去污层，所述去污层设置于第二光学偏转片光出射一侧。

9.根据权利要求1-8所述的高性能液晶光掩膜的应用，其特征在于，所述液晶光掩膜用于印刷制版中代替菲林作为光掩膜，或用于光刻中。

10.一种制版装置，其特征在于，所述制版装置包含权利要求1-8所述的高性能液晶光掩模，所述液晶光掩膜用于印刷制版中代替菲林作为光掩膜。