[发明专利]一种有机肥及其制备方法在审

专利信息
申请号: 201410198773.5 申请日: 2014-05-13
公开(公告)号: CN104003771A 公开(公告)日: 2014-08-27
发明(设计)人: 韩以涛 申请(专利权)人: 山东欣沃生物科技有限公司
主分类号: C05F11/08 分类号: C05F11/08;C05F17/00
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地址: 273500 山东*** 国省代码: 山东;37
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摘要:
搜索关键词: 一种 有机肥 及其 制备 方法
【说明书】:

技术领域

发明涉及肥料领域,尤其涉及一种有机肥及其制备方法。

背景技术

有机肥从广义上来讲也叫农家肥,包括以各种动物、植物残体或代谢物组成,如人畜粪便、秸秆、动物残体、屠宰场废弃物等。主要是以供应有机物质为手段,借此来改善土壤理化性能,促进植物生长及土壤生态系统的循环。有机肥在农业生产中的作用主要表现在以下几个方面:1、改良土壤、培肥地力;2、增加产量、提高作物品质;3、提高肥料的利用率。因此,有机肥被广泛应用于农业生产中。

现有的有机肥中大多是以泥炭、褐煤、风化煤等为主要原料经不同化学处理生成的腐殖酸类有机肥,而腐殖酸由于污染土壤环境等原因,已逐渐被我国禁用。

发明内容

本发明的实施例提供一种有机肥及其制备方法,可以保护土壤环境,促进植物生长。

为达到上述目的,本发明的实施例采用如下技术方案:

一种有机肥,包括:

发酵蘑菇渣40%-80%,发酵参杂物20%-60%;其中,所述参杂物包括以下至少一种:农作物秸秆,沼气渣,豆腐渣。

可选的,所述农作物秸秆包括:小麦秸秆或者玉米秸秆或者两者的混合物。

一种有机肥的制作方法,包括:用酵母菌将蘑菇渣以及参杂物进行无害化发酵,所述参杂物包括以下至少一种:农作物秸秆,沼气渣,豆腐渣;发酵时间为15天;

将发酵好的蘑菇渣40%-80%,以及发酵好的参杂物20%-60%搅拌均匀,然后采用单烘双冷的制作工艺进行加工生产,在所述制作工艺中将通过滚筒造粒机进行造粒生产,将通过所述滚筒造粒机生产出的肥料颗粒进行烘干处理,再进行冷却处理就将得到成品的有机肥颗粒,然后进行包装生产。

上述技术方案提供的有机肥及其制备方法,通过发酵蘑菇渣以及发酵参杂物这些废弃物来制作有机肥,有效利用了这些废弃资源,且蘑菇渣,农作物秸秆,沼气渣和豆腐渣中还含有蛋白质、氨基酸、菌体蛋白、酶等物质,可以改善土壤环境,促进植物生长,本发明实施例中的有机肥中不含腐殖质,不会造成环境污染。

具体实施方式

下面对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例仅用于说明本发明而不用于限止本发明的范围。

本发明实施例提供了一种有机肥,所述发酵蘑菇渣40%-80%,发酵参杂物20%-60%;其中,所述参杂物包括以下至少一种:农作物秸秆,沼气渣,豆腐渣。

如上所述,该有机肥可以是发酵蘑菇渣40%-80%,发酵农作物秸秆20%-60%;也可以是发酵蘑菇渣40%-80%,发酵沼气渣20%-60%;也可以是发酵蘑菇渣40%-80%,发酵豆腐渣20%-60%;也可以是发酵蘑菇渣40%-80%,发酵农作物秸秆,发酵沼气渣以及发酵豆腐渣共20%-60%;等等。

可选的,所述农作物秸秆包括:小麦秸秆或者玉米秸秆,或者小麦秸秆和玉米秸秆的混合物。

蘑菇渣简称菇渣,是指栽培各种食用菌以后剩下的固体废弃物,目前我国已成为世界上第一大食用菌生产国,生产实践表明:每100kg培养料收获100kg鲜菇后,还可以得到60kg菇渣废物,故蘑菇渣可以轻易获得。

本发明实施例提供的有机肥由蘑菇渣、农作物秸秆,沼气渣,豆腐渣这些废弃物组成,有效利用了这些废弃资源,且蘑菇渣,农作物秸秆,沼气渣和豆腐渣中还含有蛋白质、氨基酸、菌体蛋白、酶等物质,可以改善土壤环境,促进植物生长,本发明实施例中的有机肥中不含腐殖质,不会造成环境污染,且这些发酵后的植物渣可以增强土壤的通透性,改善土壤环境,进而促进植物生长,增强植物的抗病性。

本发明实施例还提供了一种有机肥的制备方法,所述方法包括以下步骤:

S1、用酵母菌将蘑菇渣以及参杂物进行无害化发酵,所述参杂物包括以下至少一种:农作物秸秆,沼气渣,豆腐渣;发酵时间为15天。

S2、将发酵好的蘑菇渣40%-80%,以及发酵好的参杂物20%-60%搅拌均匀,制成混合发酵物。

S3、采用单烘双冷的制作工艺对混合发酵物进行加工生产,并在所述制作工艺中通过滚筒造粒机进行造粒生产,将通过所述滚筒造粒机生产出的肥料颗粒进行烘干处理,再进行冷却处理就将得到成品的有机肥颗粒,然后进行包装生产。

本发明实施例中所述的有机肥,原料易得,制备方法简单,适宜大批量生产。

以上所述,仅为本发明的具体实施方式,但本发明的保护范围并不局限于此,任何熟悉本技术领域的技术人员在本发明揭露的技术范围内,可轻易想到的变化或替换,都应涵盖在本发明的保护范围之内。因此,本发明的保护范围应所述以权利要求的保护范围为准。

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