[发明专利]一种淋釉装置有效
申请号: | 201410200018.6 | 申请日: | 2014-05-13 |
公开(公告)号: | CN103992138A | 公开(公告)日: | 2014-08-20 |
发明(设计)人: | 李小成;周超 | 申请(专利权)人: | 四川汉莫尼机械设备有限公司 |
主分类号: | C04B41/86 | 分类号: | C04B41/86 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 610200 四川省*** | 国省代码: | 四川;51 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 装置 | ||
1.一种淋釉装置,包括淋釉机腔体(10)、接釉槽(18)及淋釉机机架(15),其特征在于:所述淋釉机腔体(10)包括设固定腔体(25)、活动腔体(29)及设置于固定腔体(25)和活动腔体(29)两侧的挡板(50),所述挡板(50)间设置有用来调节出釉速度的调节杆(17),所述固定腔体(25)和活动腔体(29)为开口向内的凹槽型结构,所述淋调节杆(17)上设置有偏心轴(16),所述偏心轴(16)套设于调节杆(17)上,所述调节杆(17)与调节装置(12)相连接;固定腔体(25)和活动腔体(29)底部均设有淋釉刀(30),所述固定腔体(25)和活动腔体(29)间设有空腔形结构的控釉腔(27),所述固定腔体(25)顶部与活动腔体(29)相接触处为下端相内倾斜的三角形结构,所述活动腔体(29)上设置有用来与挡板(50)相连接的腔体调节孔(28),腔体调节孔(28)为圆形孔状结构,所述挡板(50)上设置有位置与所述腔体调节孔(28)相对应的腔体活动杆(53)和与控釉腔(27)相连通的挡板进釉孔(52)。
2.根据权利要求1所述的淋釉装置,其特征在于:所述淋釉刀(30)下方设有凹槽型结构的淋釉刀口凹口(49)。
3.根据权利要求1所述的淋釉装置,其特征在于:所述调节装置(12)上设置有可旋转的调节盘(13)。
4.根据权利要求1所述的淋釉装置,其特征在于: 所述偏心轴(16)一端设有偏心轴连接杆插孔(24)另一端设置有偏心轴连接杆插孔(24),所述活动腔体(29)上设置有位置与偏心轴(16)相对应的支撑调节部件(5),所述支撑调节部件(5)上设置有两个偏心轴固定板(20),所述偏心轴固定板(20)上设有位置与偏心轴连接杆插孔(24)相对应的支撑调节部件连结杆插孔(41),所述偏心轴(16)与支撑调节部件(5)通过偏心轴连接杆(21)相连接,所述支撑调节部件(5)两侧设置有用来与活动腔体(29)相连接的固定部件插孔(40)。
5.根据权利要求1所述的淋釉装置,其特征在于:所述固定腔体(25)和活动腔体(29)正下方设置有用来控制出釉方向的导流板(19),所述导流板(19)对称轴上设置有导流槽(47),所述导流槽(47)两侧设置有第一引流槽挡板(43)和第二引流槽挡板(44),所述导流板(19)的两侧外边界处设置有对称的第一导流外挡板(42)和第二导流外挡板(45);所述第一导流外挡板(42)与第一引流槽挡板(43)间设有凹槽型结构的第一导流外槽(48),所述第二引流槽挡板(44)与第二导流外挡板(45)间设有凹槽型结构的第二导流外槽(46)。
6.根据权利要求5所述的淋釉装置,其特征在于:所述导流板(19)为上底大于下底的梯形结构,所述第一导流外挡板(42)和所述第二导流外挡板(45)高度大于所述第一引流槽挡板(43)和所述第二引流槽挡板(44),所述第一引流槽挡板(43)和所述第二引流槽挡板(44)长度相同且相互平行,所述导流槽(47)横截面宽度小于所述第二导流外槽(46)和所述第一导流外槽(48)下端横截面宽度。
7.根据权利要求1所述的淋釉装置,其特征在于:所述淋釉机机架(15)设置有机架杆(4)和上梁(9),所述机架杆(4)底部设有下底座(1)和上底座(3),所述下底座(1)和上底座(3)通过调平螺丝(2)连接;所述上梁(8)两端设置有固定板(7),所述固定板(7)与固定卡扣(6)连接,所述固定卡扣(6)套设于机架杆(4)上,所述上梁(9)上设置有用于与淋釉机腔体(10)连接的上梁螺丝(8)。
8. 根据权利要求1所述的淋釉装置,其特征在于:所述固定卡扣(6)上设置有卡扣底座(32)及设置于卡扣底座(32)上的卡扣扣环(34),所述卡扣扣环(34)为顶部设有开口的圆环状结构,所述卡扣扣环(34)的开口处设有第一加紧板(35)及第二加紧板(36),所述第一加紧板(35)及第二加紧板(36)上设有位置对应的拧紧螺孔(38),所述底座上设有连接螺孔(31);所述卡扣扣环(34)上部设置有用来加固所述第一加紧板(35)和第二加紧板(36)的上固定梁(37),所述卡扣扣环(34)下部设置有用来加固所述底座(32)的下固定梁(39),所述固定卡扣(6)上设有卡扣凹孔(33)。
9.根据权利要求1所述的淋釉装置,其特征在于:所述接釉槽(18)为设置于所述淋釉机腔体(10)下方的凹槽型结构。
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