[发明专利]掩模板及基板标记制作方法

说明书

技术领域

本发明涉及显示技术领域，特别是涉及一种掩模板及基板标记制作方法。

背景技术

随着生产技术的不断进步，显示面板生产线已从第一代线(玻璃基板尺寸为300mm×400mm)发展到如今的第十代线(玻璃基板尺寸为2850mm×3050mm)，新型产品不断地研发投产，产品的监控管理难度加剧。如图1所示，为使测试设备能够检测出显示面板在基板上的相对位置，每一个显示面板在显示区域的周边都设计有测试标记。

为了提高玻璃基板利用率，显示区域的面积设计的越来越大，受曝光设备的精度限制，一些测试标记需要设计在双重曝光区。通常，为了保护双重曝光区的测试标记所在位置的光刻胶不在第二次曝光时被曝掉，在显示区域的周边还设计有与测试标记大小相同的保护标记。

测试标记和保护标记可与显示区域的图形通过构图工艺形成。现有技术在制作基板标记时，对曝光设备的曝光精度要求极高，如果基板的第一次曝光与第二次曝光存在位置偏差，很容易导致制作的测试标记小于理论设计的图形轮廓大小，从而无法实现测试目的，不但不利于产品的监控，还可能带来巨大的经济损失。

发明内容

本发明实施例提供了一种掩模板及基板标记制作方法，以提高基板标记制作的准确性，降低产品的监控难度，降低生产成本。

本发明实施例提供的掩模板，包括：

显示区域掩模部；

至少一对测试标记掩模部，每一对测试标记掩模部位于显示区域掩模部的两侧且位置相对，每一个测试标记掩模部远离显示区域掩模部的外侧对应设置有保护标记掩模部，所述保护标记掩模部的图形轮廓大于所述测试标记掩模部的图形轮廓。

可选的，所述测试标记的形状包括方形、三角形或圆形；所述保护标记的形状包括方形、三角形或圆形。

本发明实施例还提供了一种基板标记制作方法，包括：

在衬底板上形成材料层；

在所述材料层上形成光刻胶层；

使用前述技术方案所述的掩模板依次对基板的每一个面板区域进行曝光，针对具有双重曝光区的相邻两个面板区域，第一次曝光时掩模板其中一侧的测试标记掩模部和保护标记掩模部分别与第二次曝光时掩模板另一侧的保护标记掩模部和测试标记掩模部位置重合。

在本发明技术方案中，由于掩模板的保护标记掩模部的图形轮廓大于测试标记掩模部的图形轮廓，使用该掩模板对具有双重曝光区的相邻两个面板区域进行曝光时，即使第一次曝光与第二次曝光存在位置偏差，也能够保证测试标记的图形轮廓大小与理论设计相符，因此，使用该基板标记制作方法能够提高基板标记制作的准确性，降低产品的监控难度，降低生产成本。

附图说明

图1为本发明实施例的掩模板结构示意图；

图2为本发明实施例基板标记制作方法流程示意图；

图3为相邻两个面板区域第一次曝光时基板和掩模板的相对位置示意图；

图4为相邻两个面板区域第二次曝光时基板和掩模板的相对位置示意图；

图5为相邻两个面板区域经构图工艺后的图形示意图。

具体实施方式

为了提高基板标记制作的准确性，降低产品的监控难度，降低生产成本，本发明实施例提供了一种掩模板及基板标记制作方法。在本发明技术方案中，掩模板的保护标记掩模部的图形轮廓大于测试标记掩模部的图形轮廓，使用该掩模板对具有双重曝光区的相邻两个面板区域进行曝光时，即使第一次曝光与第二次曝光存在位置偏差，也能够保证测试标记的图形轮廓大小与理论设计相符，因此，使用该基板标记制作方法能够提高基板标记制作的准确性，降低产品的监控难度，降低生产成本。

为使本发明的目的、技术方案和优点更加清楚，以下举实施例对本发明作进一步详细说明。

如图1所示，本发明实施例提供的掩模板6，包括：

显示区域掩模部1；

至少一对测试标记掩模部2，每一对测试标记掩模部2位于显示区域掩模部1的两侧且位置相对，每一个测试标记掩模部2远离显示区域掩模部1的外侧对应设置有保护标记掩模部3，保护标记掩模部3的图形轮廓大于测试标记掩模部2的图形轮廓。

基板上测试标记的形状不限，例如可以为方形、三角形或圆形等；保护标记的形状也不限，可以为方形、三角形或圆形等，在设计时应使保护标记的图形轮廓大于测试标记的图形轮廓。在本发明列举的具体实施例中，如图5所示，测试标记22和保护标记23的形状均为正方形，对应的，如图1所示，测试标记掩模部2和保护标记掩模部3的形状为正方形。