[发明专利]一种柔性显示器的制作方法有效
申请号: | 201410204555.8 | 申请日: | 2014-05-15 |
公开(公告)号: | CN103985665A | 公开(公告)日: | 2014-08-13 |
发明(设计)人: | 苏长义;郑扬霖 | 申请(专利权)人: | 深圳市华星光电技术有限公司 |
主分类号: | H01L21/683 | 分类号: | H01L21/683 |
代理公司: | 深圳翼盛智成知识产权事务所(普通合伙) 44300 | 代理人: | 刁文魁;唐秀萍 |
地址: | 518132 广东*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 柔性 显示器 制作方法 | ||
1.一种柔性显示器的制作方法,其特征在于,所述柔性显示器的制作方法包括以下步骤:
在刚性基板上形成一硅层;
经由曝光制程及蚀刻制程将所述硅层做成框型硅层;
在形成有框型硅层的刚性基板表面上贴附柔性基板;
制作显示器件层于所述柔性基板上;
在完成显示器件层后,对框型硅层进行脱氢处理,以使得所述柔性基板与所述框型硅层分开,从而得到柔性显示器。
2.如权利要求1所述的柔性显示器的制作方法,其特征在于,所述刚性基板为玻璃基板,所述硅层采用的材料是非晶硅;
所述在刚性基板上形成一硅层的步骤包括:
在玻璃基板上成膜一非晶硅层。
3.如权利要求2所述的柔性显示器的制作方法,其特征在于,所述在玻璃基板上成膜一非晶硅层的步骤,包括:
将清洗后的玻璃基板,于化学气相沉积机台上使用成膜方法长出含氢的非晶硅,成膜时增加氢气气体比例,使非晶硅内含有高比率的氢原子。
4.如权利要求2所述的柔性显示器的制作方法,其特征在于,所述经由曝光制程及蚀刻制程将所述硅层做成框型硅层的步骤,包括:
在非晶硅层表面涂抹光阻;
然后用光罩对所述光阻进行曝光;
接着对光阻进行显影;
在显影后,对非晶硅层进行蚀刻,形成框型非晶硅。
5.如权利要求2所述的柔性显示器的制作方法,其特征在于,所述柔性基板为塑料基板;
所述在形成有框型硅层的刚性基板表面上贴附柔性基板的步骤包括:
在成膜有框型非晶硅的玻璃基板表面上贴附塑料基板。
6.如权利要求5所述的柔性显示器的制作方法,其特征在于,所述在成膜有框型非晶硅的玻璃基板表面上贴附塑料基板的步骤,包括:
用涂布法在成膜有框型非晶硅的玻璃基板表面上黏合塑料基板。
7.如权利要求5所述的柔性显示器的制作方法,其特征在于,所述在成膜有框型非晶硅的玻璃基板表面上贴附塑料基板的步骤,包括:
以压合贴合法在成膜有框型非晶硅的玻璃基板表面上黏合塑料基板。
8.如权利要求5所述的柔性显示器的制作方法,其特征在于,所述在完成显示器件层后,对框型硅层进行脱氢处理,以使得所述柔性基板与所述框型硅层分开,从而得到柔性显示器的步骤包括:
在完成显示器件层后,对非晶硅进行脱氢,产生的氢气会自动将塑料基板与非晶硅分开,从而得到柔性显示器。
9.如权利要求8所述的柔性显示器的制作方法,其特征在于,所述在完成显示器件层后,对非晶硅进行脱氢,产生的氢气会自动将塑料基板与非晶硅分开,从而得到柔性显示器的步骤,包括:
在完成显示器件层后,采用激光照射方法将非晶硅脱氢,在脱氢过程中,产生的氢气会自动将塑料基板与非晶硅分开,从而得到柔性显示器。
10.如权利要求1所述的柔性显示器的制作方法,其特征在于,当制作的是柔性液晶显示器时,所述制作显示器件层于所述柔性基板上的步骤,包括:
制作液晶显示器件层于所述柔性基板上;或者,
当制作的是柔性电泳显示器时,所述制作显示器件层于所述柔性基板上的步骤,包括:
制作电泳显示器件层于所述柔性基板上;或者,
当制作的是柔性有机发光二极管显示器时,所述制作显示器件层于所述柔性基板上的步骤,包括:
制作有机发光二极管显示器件层于所述柔性基板上。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造