[发明专利]一种雕刻机圆弧定位组件无效

专利信息
申请号: 201410207449.5 申请日: 2014-05-16
公开(公告)号: CN103963533A 公开(公告)日: 2014-08-06
发明(设计)人: 申风;浦险峰;汪美娟 申请(专利权)人: 苏州意玛斯砂光设备有限公司
主分类号: B44B11/00 分类号: B44B11/00
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 215000 江苏*** 国省代码: 江苏;32
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摘要:
搜索关键词: 一种 雕刻 圆弧 定位 组件
【说明书】:

技术领域

发明涉及雕刻机技术领域,特别涉及一种手持式的雕刻机圆弧定位组件。

背景技术

雕刻机分为大型雕刻机、小型雕刻机、激光雕刻机以及手持式雕刻机等多种,绝大多数的工件加工采用大型雕刻机,不需要人工操作,通过电脑预先设定的程序即可雕刻出预期的效果。在某些场合,需要使用到手持式雕刻机,比如数控雕刻机加工后,发现需要增加雕刻图案,以雕刻圆弧形凹槽为例,针对已经加工过后的产品,需要进行再加工,如果重新设定雕刻机的程序,来增加圆弧型凹槽,显然比较浪费时间和精力。也耽误了其他工件的加工。此时,一般都是通过工人采用手持式雕刻机进行处理。现有的手持式雕刻机,在雕刻圆弧形凹槽时,局势借助挡板或者通过手控制,其雕刻的效果不佳,次品率较高。虽然手持式雕刻机体积小功率有限,但是人工控制其雕刻图形时,所给的控制力是有限并且是不稳定的,因此有必要设计出一套组件来帮助手持式雕刻机进行圆弧形凹槽的雕刻。

发明内容

为了克服现有技术的缺陷,本发明提供以下技术方案:

一种雕刻机圆弧定位组件,其包括圆弧定位机构以及固定底座,所述圆弧定位结构包括三折弯固定片、滚轮固定片以及滚轮;所述固定底座包括固定座,固定座两端设有用以与雕刻机底部固定连接的卡柱,所述固定座左侧与三折弯固定片的左端连接,固定座上表面与三折弯固定片的中部固定连接,所述三折弯固定片的右端与滚轮固定片固定连接,所述滚轮设于滚轮固定片的上方。

作为优选技术方案,所述固定座左侧设有固定孔,所述三折弯固定片左端设有与固定孔对应的卡槽,所述卡槽与固定孔通过长螺丝连接。

作为优选技术方案,所述固定座上表面设有滑槽,所述三折弯固定片的中部与上述滑槽相配合。

作为优选技术方案,所述三折弯固定片的中部设有与滑槽相配合的长通孔,所述滑槽上设有与长通孔相配合的螺纹孔,所述长通孔与螺纹孔通过螺丝固定连接。

作为优选技术方案,所述三折弯固定片右端为向上弯折的直角形状,其设有竖直方向的调节孔,所述滚轮固定片上设有与调节孔配合的安装孔,所述安装孔与调节孔通过螺丝以及螺母固定连接。

作为优选技术方案,所述滚轮采用塑料材质制成。

本发明所带来的有益效果是:在具有圆弧面的工作面上工作效果较传统方法更佳,工作效率更高,其结构简单并且牢固,可灵活调节。

附图说明

图1是本发明结构示意图。

图中标号为:、

1、固定底座;2、三折弯固定片;3、滚轮固定片;4、滚轮;

10、固定孔;11、固定座;12、滑槽;13、螺纹孔;14、卡柱

21、卡槽;22、长通孔;23、调节孔;31、安装孔。

具体实施方式

下面结合附图对本发明的较佳实施例进行详细阐述,以使本发明的优点和特征能更易于被本领域技术人员理解,从而对本发明的保护范围做出更为清楚明确的界定。

如图1所示,一种雕刻机圆弧定位组件,其包括圆弧定位机构以及固定底座1,所述圆弧定位结构包括三折弯固定片2、滚轮固定片3以及滚轮4;所述固定底座包括固定座11,固定座11两端设有用以与雕刻机底部固定连接的卡柱14,所述固定座11左侧与三折弯固定片2的左端连接,固定座11上表面与三折弯固定片2的中部固定连接,所述三折弯固定片2的右端与滚轮固定片3固定连接,所述滚轮4设于滚轮固定片3的上方。

所述固定座11左侧设有固定孔10,所述三折弯固定片2左端设有与固定孔10对应的卡槽21,所述卡槽21与固定孔10通过长螺丝连接。

所述固定座11上表面设有滑槽12,所述三折弯固定片2的中部与上述滑槽12相配合。

所述三折弯固定片2的中部设有与滑槽12相配合的长通孔22,所述滑槽12上设有与长通孔相配合的螺纹孔13,所述长通孔22与螺纹孔13通过螺丝固定连接。

所述三折弯固定片2右端为向上弯折的直角形状,其设有竖直方向的调节孔23,所述滚轮固定片3上设有与调节孔23配合的安装孔31,所述安装孔31与调节孔23通过螺丝以及螺母固定连接。

所述滚轮4采用塑料材质制成。

本发明所所述实施例具有的优点是:在具有圆弧面的工作面上工作效果较传统方法更佳,工作效率更高,其结构简单并且牢固,可灵活调节。

以上所述,仅为本发明的具体实施方式,但本发明的保护范围并不局限于此,任何熟悉本领域的技术人员在本发明所揭露的技术范围内,可不经过创造性劳动想到的变化或替换,都应涵盖在本发明的保护范围之内。因此,本发明的保护范围应该以权利要求书所限定的保护范围为准。

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