[发明专利]电阻式存储器及其操作方法在审

专利信息
申请号: 201410211489.7 申请日: 2014-05-19
公开(公告)号: CN105097020A 公开(公告)日: 2015-11-25
发明(设计)人: 李明修 申请(专利权)人: 旺宏电子股份有限公司
主分类号: G11C13/00 分类号: G11C13/00;H01L45/00
代理公司: 中科专利商标代理有限责任公司 11021 代理人: 任岩
地址: 中国台湾新竹*** 国省代码: 中国台湾;71
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 电阻 存储器 及其 操作方法
【说明书】:

技术领域

发明是有关于一种存储器,且特别是有关于一种电阻式存储器及其操作方法。

背景技术

请参照图14及图15,图14绘示为编程传统电阻式存储器的示意图,图15绘示为擦除传统电阻式存储器的示意图。传统电阻式存储器3的基本结构是以一个晶体管T及一个电阻存储单元Rcell所组成。电阻式存储器3本身结构为金属/绝缘层/金属(MIM)结构。电阻式存储器3通过外加偏压來改变电阻存储单元Rcell的电阻值,以执行编程与擦除的动作。

如图14所示,当编程电阻存储单元Rcell时,晶体管T的栅极及电阻存储单元Rceu被施加偏压+V,且晶体管T的源极被接地(即0V),使得晶体管T导通。编程电流Ip由电阻存储单元Rcell流向晶体管T。亦即,编程电流Ip由晶体管T的漏极流向晶体管T的源极。

如图15绘示,当擦除电阻存储单元Rcell时,晶体管T的栅极及晶体管T的源极被施加偏压+V,且电阻存储单元Rcell被接地(即0V),使得晶体管T导通。擦除电流Ir由晶体管T流向电阻存储单元Rcell。亦即,擦除电流Ir由晶体管T的源极流向晶体管T的漏极。然而,传统电阻式存储器被擦除时,晶体管的本体效应(BodyEffect)将导致擦除电流Ir下降,进而影响传统电阻式存储器的操作效率,并容易造成擦除失败的事故发生。

发明内容

本发明是有关于一种电阻式存储器及其操作方法。

根据本发明,提出一种电阻式存储器。电阻式存储器包括电阻存储单元、主晶体管及辅助晶体管。主晶体管及辅助晶体管的漏极耦接电阻存储单元的一端。当编程电阻存储单元时,主晶体管导通,且辅助晶体管截止。当擦除电阻存储单元时,主晶体管及辅助晶体管导通。

根据本发明,提出一种电阻式存储器的操作方法。电阻式存储器包括电阻存储单元、主晶体管及辅助晶体管。操作方法包括:当编程电阻存储单元时,控制与电阻存储单元耦接的主晶体管导通,且控制与电阻存储单元及主晶体管耦接的辅助晶体管截止;以及当擦除电阻存储单元时,控制主晶体管及辅助晶体管导通。

为了对本发明的上述及其他方面有更佳的了解,下文特举较佳实施例,并配合所附图式,作详细说明如下:

附图说明

图1绘示为依照第一实施例的电阻式存储器的存储单元的示意图。

图2绘示为编程电阻存储单元的示意图。

图3绘示为擦除电阻存储单元的示意图。

图4绘示为依照第一实施例的电阻式存储器的电路图。

图5绘示为依照第一实施例的电阻式存储器的电路布局图。

图6绘示为对依照第一实施例的电阻式存储器进行编程的示意图。

图7绘示为对依照第一实施例的电阻式存储器进行擦除的示意图。

图8绘示为对依照第一实施例的电阻式存储器进行读取的示意图。

图9绘示为依照第二实施例的电阻式存储器的电路图。

图10绘示为依照第二实施例的电阻式存储器的电路布局图。

图11绘示为对依照第二实施例的电阻式存储器进行编程的示意图。

图12绘示为对依照第二实施例的电阻式存储器进行擦除的示意图。

图13绘示为对依照第二实施例的电阻式存储器进行读取的示意图。

图14绘示为编程传统电阻式存储器的示意图。

图15绘示为擦除传统电阻式存储器的示意图。

【符号说明】

1、2:电阻式存储器

11:存储单元

Rcell:电阻存储单元

TM:主晶体管

TA:辅助晶体管

Ip:编程电流

Irm、Ira:擦除电流

DL1~DL3:漏极线

SL1~SL4:源极线

GL1~GL3:主栅极线

GL1A~GL3A:辅助栅极线

+Vp_DL、+Vr_DL:漏极偏压

+Vp_GL、+Ve_GL、+Vr_GL:栅极偏压

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于旺宏电子股份有限公司,未经旺宏电子股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201410211489.7/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top