[发明专利]有机发光显示装置有效

专利信息
申请号: 201410213789.9 申请日: 2014-05-20
公开(公告)号: CN104282837B 公开(公告)日: 2018-02-06
发明(设计)人: 曹成豪;全容济 申请(专利权)人: 三星显示有限公司
主分类号: H01L51/52 分类号: H01L51/52;H01L27/32
代理公司: 北京铭硕知识产权代理有限公司11286 代理人: 刘灿强,谭昌驰
地址: 韩国京畿*** 国省代码: 暂无信息
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 有机 发光 显示装置
【权利要求书】:

1.一种有机发光显示装置,所述有机发光显示装置包括:

底基板,具有显示区域和围绕显示区域的外围区域;

多个有机发光器件,在底基板的显示区域中;

顶基板,对应于底基板;

密封构件,在底基板的外围区域中并被构造为使底基板附着到顶基板;以及

抗冲击构件,在底基板的外围区域中并与密封构件分隔开,抗冲击构件从底基板向着顶基板突出,

其中,所述多个有机发光器件包括多个像素电极、对应于所述多个像素电极的对电极以及在所述多个像素电极与对电极之间并包括发射层的中间层,

所述有机发光显示装置还包括:多个薄膜晶体管,在底基板的显示区域中并被电连接到所述多个像素电极;电极供电线,处于与所述多个薄膜晶体管的一个电极相同的层;连接单元,在抗冲击构件与底基板之间,所述连接单元具有第一端和第二端,所述第一端处于与所述多个像素电极相同的层并接触对电极,所述第二端接触电极供电线。

2.根据权利要求1所述的有机发光显示装置,其中,

与对电极的厚度相对应的间隔形成在顶基板与抗冲击构件的向着顶基板的端表面之间。

3.根据权利要求1所述的有机发光显示装置,其中,

所述有机发光显示装置还包括像素限定层,所述像素限定层在底基板的显示区域中并且被构造为覆盖所述多个像素电极的边缘部以使所述多个像素电极的中央部暴露;

底基板和抗冲击构件的向着顶基板的端表面之间的距离与底基板和像素限定层的向着顶基板的端表面之间的距离相等。

4.根据权利要求3所述的有机发光显示装置,其中,抗冲击构件包括与像素限定层相同的材料。

5.根据权利要求1所述的有机发光显示装置,其中,

顶基板在面对底基板的表面上与抗冲击构件对应的位置具有槽,

抗冲击构件的向着顶基板的一部分位于槽内。

6.根据权利要求1所述的有机发光显示装置,其中,电极供电线处于与所述多个薄膜晶体管的电极中的源/漏电极相同的层。

7.根据权利要求1所述的有机发光显示装置,其中,抗冲击构件接触电极供电线或连接单元。

8.根据权利要求1所述的有机发光显示装置,其中,抗冲击构件与电极供电线、连接单元和电极供电线下面的层中的至少一个接触。

9.根据权利要求1所述的有机发光显示装置,其中,抗冲击构件围绕底基板的显示区域。

10.根据权利要求1所述的有机发光显示装置,其中,抗冲击构件离散地位于底基板的显示区域的周围。

11.根据权利要求1所述的有机发光显示装置,其中,抗冲击构件包括具有第一宽度的第一部和具有小于第一宽度的第二宽度的第二部,

第一部比第二部更接近底基板。

12.根据权利要求11所述的有机发光显示装置,其中,第二宽度为20μm至100μm。

13.根据权利要求1所述的有机发光显示装置,其中,密封构件的接触顶基板的部位的向着显示区域的端部与抗冲击构件的中央之间的距离在150μm以内。

14.一种有机发光显示装置,所述有机发光显示装置包括:

底基板,具有显示区域和围绕显示区域的外围区域;

多个有机发光器件,在底基板的显示区域中;

顶基板,对应于底基板;

密封构件,在底基板的外围区域中并被构造为使底基板附着到顶基板;以及

抗冲击构件,在底基板的外围区域中并与密封构件分隔开,抗冲击构件从底基板向着顶基板突出,

其中,

顶基板在面对底基板的表面上与抗冲击构件对应的位置具有槽,

抗冲击构件的向着顶基板的一部分位于槽内,

抗冲击构件包括第一抗冲击单元和第二抗冲击单元,

第二抗冲击单元位于第一抗冲击单元上,

第二抗冲击单元的至少一部分位于顶基板的槽内。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于三星显示有限公司,未经三星显示有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201410213789.9/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top