[发明专利]一种基于平面混合桥电磁带隙结构的电源分配网络无效

专利信息
申请号: 201410215089.3 申请日: 2014-05-20
公开(公告)号: CN103997201A 公开(公告)日: 2014-08-20
发明(设计)人: 陈朋;汝岩;朱威;金锋;廖立科 申请(专利权)人: 浙江工业大学
主分类号: H02M1/44 分类号: H02M1/44
代理公司: 杭州天勤知识产权代理有限公司 33224 代理人: 胡红娟
地址: 310014 浙*** 国省代码: 浙江;33
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摘要:
搜索关键词: 一种 基于 平面 混合 磁带 结构 电源 分配 网络
【权利要求书】:

1.一种基于平面混合桥电磁带隙结构的电源分配网络,包括依次布置的电源平面、介质基板和地平面,所述电源平面包括电磁带隙结构单元矩阵,其特征在于,所述平面混合桥电磁带隙结构单元为带有四个S-型桥的结构单元,其中两个S-型桥为连接纵向相邻两个贴片的S1-型桥,另外两个S-型桥为连接横向相邻两个贴片的S2-型桥。

2.如权利要求1所述的基于平面混合桥电磁带隙结构的电源分配网络,其特征在于,所述电源平面的至少一部分由电磁带隙结构单元矩阵构成。

3.如权利要求1或2所述的基于平面混合桥电磁带隙结构的电源分配网络,其特征在于,所述贴片为矩形,两个S1-型桥分别引自矩形的相对两边,两个S2-型桥分别引自矩形的另外相对两边。

4.如权利要求3所述的基于平面混合桥电磁带隙结构的电源分配网络,其特征在于,S1-型桥的两端伸入相应贴片的内部,S2-型桥的两端连接在相应贴片的外边缘处。

5.如权利要求4所述的基于平面混合桥电磁带隙结构的电源分配网络,其特征在于,S1-型桥与相应贴片的连接处通过开槽形成第一狭缝,S2-型桥与相应贴片的外边缘设有第二狭缝。

6.如权利要求5所述的基于平面混合桥电磁带隙结构的电源分配网络,其特征在于,各S-型桥对所连接的两个贴片形成半包围。

7.如权利要求6所述的基于平面混合桥电磁带隙结构的电源分配网络,其特征在于,S1-型桥和S2-型桥靠近电磁带隙结构单元边沿部分的宽度为0.1mm,S1-型桥和S2-型桥靠近贴片部分的宽度为0.2mm。

8.如权利要求7所述的基于平面混合桥电磁带隙结构的电源分配网络,其特征在于,S1-型桥和S2-型桥靠近电磁带隙结构单元边沿部分与S1-型桥和S2-型桥靠近贴片部分的距离为0.4mm,S1-型桥和S2-型桥靠近贴片部分与贴片的距离为0.2mm。

9.如权利要求8所述的基于平面混合桥电磁带隙结构的电源分配网络,其特征在于,所述第一狭缝的宽度为0.4mm,所述第二狭缝的宽度为0.2mm;所述第一狭缝的深度为10.6mm,所述第二狭缝的深度为9.0mm。

10.如权利要求9所述的基于平面混合桥电磁带隙结构的电源分配网络,其特征在于,贴片边沿距离第一狭缝的距离为6.1mm。

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