[发明专利]一种监控电子显微镜化学油污污染的方法

权利要求书

1.一种监控电子显微镜化学油污污染的方法，其特征在于包括：

建立短流程工艺，该短流程工艺至少包括依次执行的金属阻挡层生长步骤、金属填充步骤以及金属平坦化步骤；

在电子显微镜进行添加润滑油之后，选用短流程硅片，对刚好执行完金属阻挡层生长步骤后的硅片进行缺陷观察动作；

将被观察的硅片按照所建立的短流程工艺流片到执行完金属平坦化步骤；

在金属平坦化步骤后对被观察的硅片进行缺陷检查，以确定被观察的硅片是否存在金属损伤缺陷。

2.根据权利要求1所述的监控电子显微镜化学油污污染的方法，其特征在于，如果被观察的硅片存在金属损伤缺陷，则确定存在电子显微镜化学油污污染。

3.根据权利要求1或2所述的监控电子显微镜化学油污污染的方法，其特征在于，如果被观察的硅片不存在金属损伤缺陷，则确定不存在电子显微镜化学油污污染。

4.根据权利要求1或2所述的监控电子显微镜化学油污污染的方法，其特征在于，短流程工短流程工包括如下工艺步骤：介电层沉积步骤、光刻与干刻步骤、金属阻挡层生长步骤、金属填充步骤以及金属平坦化步骤。