[发明专利]一种可量产的PERL晶体硅太阳电池的制作方法有效

专利信息
申请号: 201410219828.6 申请日: 2014-05-23
公开(公告)号: CN103996746B 公开(公告)日: 2017-05-03
发明(设计)人: 夏正月;高艳涛;崔会英;钱亮;何锐;陈同银;刘仁中;董经兵;张雪;谢烜;张斌;邢国强 申请(专利权)人: 奥特斯维能源(太仓)有限公司
主分类号: H01L31/18 分类号: H01L31/18
代理公司: 南京苏高专利商标事务所(普通合伙)32204 代理人: 刘燕娇
地址: 215434 江苏省苏州*** 国省代码: 江苏;32
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摘要:
搜索关键词: 一种 量产 perl 晶体 太阳电池 制作方法
【权利要求书】:

1.一种可量产PERL晶体硅太阳电池的制作方法,其特征在于:包括以下步骤:

(1)硅片去损伤并制绒、清洗:选择p型硅片作为硅基体,对选择的p型硅片去损伤后在碱液下进行表面绒面化,然后在酸性条件下进行化学清洗,除去表面杂质;p型硅片其电阻率为0.5-6ohm·cm,对硅片的制绒、清洗具体为:用质量分数为0.5-2%的氢氧化钠或氢氧化钾溶液在75-85℃下对P型硅片表面进行化学腐蚀,制备出金字塔形状的绒面,随后用质量分数为0.5-30%的氢氟酸进行清洗;

(2)磷扩散:对硅片的正面进行磷扩散形成n型层,扩散自然形成的磷硅玻璃作为电池正面的掩膜,实现背面去除发射结以及抛光的目的;

(3)背面磷硅玻璃去除,并实现背面抛光,去除磷硅玻璃并清洗;

(4)在硅片的背面氧化铝/氮化硅叠层薄膜生长;

(5)在硅片的正面氮化硅减反射薄膜生长;

(6)在硅片的背面印刷p型掺杂剂并烘干;

(7)在硅片的背面的p型掺杂剂印刷区域采用激光进行局域重掺杂;

(8)对硅片进行超声清洗;

(9)在硅片的背面印刷背电极及铝背场,正面印刷银栅线;

(10)烧结,测试。

2.根据权利要求1所述的可量产的PERL晶体硅太阳电池的制作方法,其特征在于:步骤2中磷扩散采用管式磷扩散的方法,具体是在扩散炉中在600-900℃的温度下,采用POCL3对硅片的正面进行磷扩散形成n型层,使P型晶体硅方阻为20-150ohm/sq。

3.根据权利要求1所述的可量产的PERL晶体硅太阳电池的制作方法,其特征在于:步骤3中的背面磷硅玻璃去除,并实现背面抛光,去除磷硅玻璃并清洗的方法,是采用在线滚轮式设备,背面去除磷硅玻璃,实现背面抛光,然后去除正面磷硅玻璃,然后采用质量分数为0.5-30%的氢氟酸溶液清洗。

4.根据权利要求1所述的可量产的PERL晶体硅太阳电池的制作方法,其特征在于:步骤4中的电池背面氧化铝/氮化硅叠层薄膜生长采用SiNx、SiCx或TiOx进行钝化,所述的氧化铝薄膜的厚度为1-100nm。

5.根据权利要求1所述的可量产的PERL晶体硅太阳电池的制作方法,其特征在于:步骤5中采用PECVD的方法生长氮化硅减反射薄膜,其中氮化硅减反射膜的厚度为50-120nm,所述步骤4和步骤5的顺序可以颠倒。

6.根据权利要求1所述的可量产的PERL晶体硅太阳电池的制作方法,其特征在于:步骤6中在硅的背面采用丝网印刷或喷墨打印的方法印刷p型掺杂剂,所述的p型掺杂剂为硼浆,印刷的图形为平行的直线,线宽为5-150um,线间距为200um-5mm;步骤7中采用激光对硅片的背面的p型掺杂剂进行局域重掺杂,掺杂区域线宽10-150um,所述的p型掺杂剂为硼浆。

7.根据权利要求1所述的可量产的PERL晶体硅太阳电池的制作方法,其特征在于:超声清洗时所用的清洗溶液为质量浓度为0.5-2%的NaOH和异丙醇混合溶液。

8.根据权利要求1所述的可量产的PERL晶体硅太阳电池的制作方法,其特征在于:步骤9中采用铝浆丝网印刷的方法或PVD蒸镀铝的方法来印刷背电极及铝背场。

9.根据权利要求1所述的可量产的PERL晶体硅太阳电池的制作方法,其特征在于:步骤9中背电极及铝背场的印刷可以在电池背面的叠层膜生长结束后,印刷Al浆并烘干,直接利用LFC工艺形成背面点接触的背电极及铝背场。

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