[发明专利]图形处理单元和基于图块的渲染方法有效

专利信息
申请号: 201410221690.3 申请日: 2014-05-23
公开(公告)号: CN104183005B 公开(公告)日: 2018-08-14
发明(设计)人: 金泓润;刘昌孝 申请(专利权)人: 三星电子株式会社
主分类号: G06T15/00 分类号: G06T15/00;G06T15/40;G06T11/40
代理公司: 北京市柳沈律师事务所 11105 代理人: 张泓
地址: 韩国*** 国省代码: 韩国;KR
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 图形 处理 单元 基于 渲染 方法
【权利要求书】:

1.一种图形处理单元,包括:

铺块单元,被配置为识别触及图像帧中的多个图块中的对应图块的多个图元,使用多个图元中的每一个的深度值来确定多个图元中的至少一个代表性图元,并且使用至少一个代表性图元的深度值来确定用于对应图块的多个图元中的可见图元;和

光栅器,被配置为对至少一个代表性图元和用于对应图块的可见图元进行光栅化,

其中,先于可见图元之前对至少一个代表性图元进行光栅化,并且根据渲染顺序来对可见图元进行光栅化,

其中,光栅器被配置为从存储器接收关于多个图块中的每一个的图元列表,并且图元列表包括至少一个代表性图元的标识符和可见图元的标识符,并且

其中,光栅器包括定序器,该定序器被配置为从图元列表中提取至少一个代表性图元的标识符,并且通过参考至少一个代表性图元的标识符来改变至少一个代表性图元的渲染顺序。

2.根据权利要求1所述的图形处理单元,其中,铺块单元包括第一早期深度测试器,该第一早期深度测试器被配置为通过将多个图元中的每一个的深度值与至少一个代表性图元的深度值相比较来确定可见图元。

3.根据权利要求2所述的图形处理单元,其中,第一早期深度测试器使用第一覆盖掩模和第二覆盖掩模来确定可见图元,并且

其中,第一覆盖掩模指示由多个图元触及的对应图块的一部分,并且第二覆盖掩模指示由至少一个代表性图元触及的对应图块的一部分。

4.根据权利要求1所述的图形处理单元,其中,光栅器包括:

内插单元,被配置为生成形成多个图元中的每一个的内部的多个片段;和

第二早期深度测试器,被配置为确定多个片段中的每一个的可见性。

5.根据权利要求4所述的图形处理单元,其中,第二早期深度测试器通过将对应图块的深度值与多个片段中的每一个的深度值相比较来确定多个片段中的每一个的可见性。

6.根据权利要求4所述的图形处理单元,其中,第二早期深度测试器通过将先前在相同位置被渲染的多个片段中的每一个的深度值与属于对应图块的内部的目前要被渲染的多个片段中的每一个的深度值相比较来确定多个片段中的每一个的可见性。

7.根据权利要求1所述的图形处理单元,其中,铺块单元向存储器输出包括至少一个代表性图元和可见图元的标识符的图元列表。

8.根据权利要求1所述的图形处理单元,其中,晚于可见图元之后对至少一个代表性图元进行光栅化,并且根据渲染顺序来对可见图元进行光栅化。

9.一种图形处理单元,包括:

铺块单元,被配置为识别触及图像帧中的多个图块中的对应图块的多个图元,使用多个图元中的每一个的深度值来确定多个图元中的至少一个代表性图元,并且对多个图元执行第一早期深度测试以使用至少一个代表性图元的深度值来确定用于对应图块的多个图元中的可见图元;和

光栅器,被配置为通过生成形成至少一个代表性图元和可见图元中的每一个的内部的多个片段、对多个片段执行第二早期深度测试以及确定多个片段中的每一个的可见性,来对至少一个代表性图元和可见图元执行光栅化,

其中,以与在铺块单元的渲染顺序不同的顺序来对至少一个代表性图元和可见图元进行光栅化,

其中,光栅器被配置为从存储器接收关于多个图块中的每一个的图元列表,并且图元列表包括至少一个代表性图元的标识符和可见图元的标识符,并且

其中,光栅器包括定序器,该定序器被配置为提取至少一个代表性图元的标识符,并且通过参考至少一个代表性图元的标识符来改变至少一个代表性图元的渲染顺序。

10.根据权利要求9所述的图形处理单元,其中,铺块单元被配置为将多个图元中的每一个的深度值与至少一个代表性图元的深度值相比较,以确定可见图元。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于三星电子株式会社,未经三星电子株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201410221690.3/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top