[发明专利]下基板及其制造方法和液晶透镜

说明书

技术领域

本发明涉及显示技术领域，特别涉及下基板及其制造方法和液晶透镜。

背景技术

随着3D电影的出现和发展，越来越多的人希望将3D技术应用到计算机、电视机或手机等智能终端上。目前，裸眼3D的主流实现方法有视差挡板法、柱透镜光栅法。

其中，柱透镜光栅法实现3D显示的原理在于：在液晶透镜外加装一层柱状透镜，柱状透镜可将液晶透镜出射的光进行折射，在同一时刻，使一部分像素的光只能被左眼接收，而另一部分光只能被右眼接收，从而实现3D显示。

液晶透镜作为柱透镜光栅的核心元件，该液晶透镜包括相对设置的上基板、下基板和填充于上、下基板之间液晶，其中下基板中包括有隔垫物(Photo Spacer)以维持液晶盒厚(Cell Gap)，目前，液晶透镜的盒厚一般需要在10μm以上，且该液晶盒厚越大，则液晶的曲折率越接近二次曲线，此时串扰(Cross Talk)越小。

下面结合附图就现有技术中形成隔垫物的工艺进行详细描述。

图1为现有技术中在衬底基板上形成的隔垫物的示意图，图2为包含有图1中的隔垫物的下基板与上基板对盒后的示意图，如图1和图2所示，在现有技术中，形成隔垫物的大致过程如下：

首先，在衬底基板1的上表面形成一层负性光刻胶；然后，在负性光刻胶的上方设置一掩模板(图中未示出)；再然后，利用紫外光线通过掩模板照射至负性光刻胶的上表面，以实现对负性光刻胶的曝光处理；最后，利用显影剂对曝光处理后的负性光刻胶进行显影处理得到隔垫物2。

现有技术在利用紫外光线对负性光刻胶进行曝光时，紫外光线需要经过整个负性光刻胶的膜层传达到下表面，因此，负性光刻胶沿上表面至下表面方向上接收的曝光量逐渐变弱，下表面接收到的曝光量明显弱于上表面，从而使得底部(下表面方向)的固化程度不如顶部(上表面方向)的固化程度高，同时底部的固化区域要小于顶部的固化区域，进而在显影处理后会在衬底基板1上形成截面形状为“上大下小”的倒梯形，而这种倒梯形结构的隔垫物2在衬底基板1上站立不稳定，当隔垫物2的顶部受到压迫时很容易倾倒。

在包含有上述隔垫物2的下基板与上基板3对盒时，上基板3会对隔垫物2的顶部产生压力，从而容易导致隔垫物倾斜，使得液晶透镜中容易产生云纹(Mura)。目前的解决方法是开发特殊的隔垫物材料，但材料的开发-导入成本巨大，限制了该技术的推广。

发明内容

本发明提供一种下基板及其制造方法和液晶透镜，可实现在不改变隔垫物材料的基础上，有效的解决下基板与上基板在对盒过程中隔垫物倾倒的问题。

为实现上述目的，本发明提供一种下基板的制造方法，在透明衬底的上表面形成掩模层，所述掩模层包括：遮光区域和透光区域；

在所述掩模层上方形成隔垫物基材；

利用曝光光线照射所述透明衬底的下表面，所述曝光光线透过所述透光区域对所述隔垫物基材进行曝光；

对所述隔垫物基材进行显影处理，形成横截面积沿下表面至上表面方向递减的隔垫物。

可选地，所述在透明衬底的上表面形成掩模层的步骤包括：

在所述透明衬底的上表面形成遮光层；

在所述遮光层上形成过孔。

可选地，所述遮光层的材料为金属。

可选地，所述形成所述隔垫物的步骤之后还包括：

对所述隔垫物进行再固化。

可选地，所述形成所述隔垫物的步骤之后还包括：

去除所述掩模层的遮光区域的材料。

可选地，所述在透明衬底的上表面形成掩模层的步骤之前还包括：

在所述透明衬底的上表面形成透明电极。

为实现上述目的，本发明提供一种下基板，包括：透明衬底和形成于所述透明衬底上表面的隔垫物，所述隔垫物的横截面积沿所述隔垫物的下表面至上表面方向递减。

为实现上述目的，本发明提供一种液晶透镜，包括：上基板、下基板和填充于所述上基板和所述下基板之间的液晶层，所述下基板采用上述的下基板。

本发明具有以下有益效果：

本发明提供了一种下基板及其制造方法和液晶透镜，其中该下基板的制造方法包括：在透明衬底的上表面形成隔垫物，该隔垫物的横截面积沿隔垫物的下表面至上表面方向递减，本发明的技术方案采用“由下至上”的曝光方式，可实现显影处理后形成的隔垫物横截面积沿隔垫物的下表面至上表面方向递减，该隔垫物能稳定的固定在透明衬底上，从而有效的解决了在下基板与上基板在对盒过程中隔垫物倾倒的问题。

附图说明