[发明专利]一种提高二氧化钒薄膜相变幅度的表面微结构

权利要求书

1.一种提高二氧化钒薄膜相变幅度的表面微结构，其特征在于，所述可提高二氧化钒薄膜相变幅度的表面微结构包括：以三氧化二铝为基底，在基底的一半面积上排列了一层二氧化硅纳米球，另一半不排球，接着在整片基底上沉积有一层二氧化钒薄膜。 

2.根据权利要求1所述的提高二氧化钒薄膜相变幅度的表面微结构，其特征在于，由如下方法制成： 

(1)清洗三氧化二铝基片和载波片； 

(2)提拉单层二氧化硅纳米球： 

在一半面积的三氧化二铝基片上，采用提拉镀膜的方法均匀排列一层二氧化硅纳米球，另一半不做处理； 

(3)磁控溅射金属钒薄膜： 

以金属钒作为靶材，采用对靶磁控溅射的方法，在上述步骤(2)中整片三氧化二铝基片上沉积一层金属钒薄膜； 

(4)快速热处理形成二氧化钒薄膜。 

3.根据权利要求2所述的提高二氧化钒薄膜相变幅度的表面微结构，其特征在于，所述步骤 

(1)三氧化二铝基片和载波片的清洗是指把三氧化二铝基片和载波片依次放入无水乙醇、丙酮溶剂中分别超声清洗20-30分钟；将三氧化二铝基片用去离子水洗净，放入无水乙醇中备用；载波片冲洗后放入先前配制好的10-15％十二烷基硫酸钠溶液中浸泡24h以上，作为引流片备用。 

4.根据权利要求2所述的提高二氧化钒薄膜相变幅度的表面微结构，其特征在于，所述步骤 

(2)中二氧化硅纳米球浸泡在无水乙醇中存放，使用时通过移液枪将二氧化硅—无水乙醇溶液滴加到斜插入去离子水中的引流片上，并缓缓流到水面,在水面铺展开来，形成高密度、大面积的单层二氧化硅球薄膜，静置待液面稳定后,用镀膜提拉机缓慢的将三氧化二铝基片的下半部分浸没在溶液中并竖直提拉出液面，提拉速度为80-180μm/min。 

5.根据权利要求2所述的提高二氧化钒薄膜相变幅度的表面微结构，其特征在于，所述步骤 

(3)中所用靶材为质量纯度为99.99％的金属钒，抽本体真空至(3.0-4.0)×10^-4pa；通入氩气作为工作气体，流量为40-50sccm；工作压强为2.0-3.0pa时开始溅射，溅射时间为10-30分钟。 

6.根据权利要求2所述的提高二氧化钒薄膜相变幅度的表面微结构，其特征在于，所述步骤 

(4)快速热处理是指将步骤(3)中得到的样品放入快速退火炉中，设置退火温度为400-480℃，升温速率为40-50℃/s，保温时间为120-180s，降温时间100-120s，反应气体为氧气，升温和保温时氧气流量为3-4slpm,降温时氧气流量为10slpm,将金属钒薄膜氧化成二氧化钒薄膜。