[发明专利]柱面干涉拼接测量装置及其调整方法有效
申请号: | 201410223665.9 | 申请日: | 2014-05-26 |
公开(公告)号: | CN103994731B | 公开(公告)日: | 2017-03-15 |
发明(设计)人: | 于瀛洁;许海峰;彭军政;葛东宝;宋琨鹏 | 申请(专利权)人: | 上海大学 |
主分类号: | G01B11/24 | 分类号: | G01B11/24 |
代理公司: | 上海上大专利事务所(普通合伙)31205 | 代理人: | 何文欣 |
地址: | 200444*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 柱面 干涉 拼接 测量 装置 及其 调整 方法 | ||
1.一种柱面干涉拼接测量装置,包括干涉仪(1)、支座(2)、六维调整架(3)、CGH(4)、一维导轨平台(5)、被测件(6)、四维调整机构(7)、五维调整机构(8)、电控升降台(9);其特征在于:所述支座(2)上安装干涉仪(1)和一维导轨平台(5),一维导轨平台(5)上安装六维调整架(3),将CGH(4)安装在六维调整架(3)上,使干涉仪(1)出射光轴能够通过CGH(4)中心,并且能调整CGH(4)与被测件(6)之间的距离;由所述四维调整机构(7)、五维调整机构(8)和电控升降台(9)组成被测件调节机构,被测件调节机构下端是电控升降台(9),电控升降台(9)上面固定五维调整机构(8),用来调整被测件(6)的轴心线与CGH(4)产生的柱面波焦线重合,五维调整机构(8)上面固定四维调整机构(7),用来调整被测件(6)的轴心线与被测件调节机构的旋转中心线重合,四维调节机构(7)上面固定被测件(6)。
2.所述一维导轨平台(5)是:安装板(20)上面固定滑轨(21,21’),滑块(22,22’)可以沿滑轨(21,21’)的平行方向自由移动,滑轨(22,22’)上面固定连接板(23);连接板(23)上面固定六维调整架(3)可进行一维移动。
3.所述四维调整机构(7)是:二轴精密倾斜平台(11,11’)上面固定另一个二维直动平台(10,10’),可满足被测件(6)除上下移动和竖直旋转外的其他四个自由度的调节。
4.所述五维调整机构(8)是:二维精密弧摆台(14,14’)上面固定二维直动平台(13,13’),而精密转动平台(12,12’)固定在该二维直动平台(13,13’)上,可满足被测件(6)除上下移动外的其他五个自由度的调节。
5.所述柱面干涉拼接测量装置的调整方法,用于对权利要求1所述的柱面干涉拼接测量装置进行调整,其特征在于操作步骤如下:
① 安装调整CGH(4):CGH(4)安装在六维调整架(3)上,将六维调整架(3)安装在一维导轨平台(5)上;一要调整CGH(4)与被测件(6)之间的距离,使CGH(4)与被测柱形工件轴线距离为CGH(4)的后焦距;二要调整六维调整架(3)使干涉仪(1)的出射光轴通过CGH(4)的中心,并使其相对光轴有1度的偏转,通过调整CGH(4)的标记点位置使CGH(4)产生的柱面波焦线为竖直方向;再观察CGH(4)对准环,调节至对准环上的干涉条纹数在5条以内;
② 调整四维调整台(6):首先将被测件调节机构所有部件调整到竖直位置;其次,分别使用水平和竖直的千分表对被测件(6)进行调心和调平:调心是将千分表指针顶在被测件(6)上,通过调整二维直动平台(10,10’)来调节被测柱面(6)的周线位置,直至千分表示数在转动过程中变化很小;调平与调心的方法相同,不同之处是转动过程中只调节二轴精密倾斜平台(11,11’);在调心、调平过程中千分表配合使用:先旋转被测件(6),让千分表触头滑过整个测量行程,寻找表面变化规律,确定千分表上的最大和最小读数,然后转动被测件(6)使千分表的指针到达中间读数位置,再调整二维直动平台(10,10’),使千分表指针达到中间读数和最大读数的一半量程位置,如此反复;调整之后移动千分表的位置,保持千分表始终有示数;再重复上述步骤直至千分表示数几乎不变;
③ 调整一维导轨平台(5)与电控升降台(9):移动一维导轨平台(5)和电控升降台(9)的位置,使CGH(4)与被测件(6)的轴心线距离为CGH(4)产生的柱面波的后焦距,并且调整被测件(6)在适合的高度;调整CGH(4)的方位,使产生的柱面波轴线为竖直方向,使干涉仪(1)光轴垂直通过CGH(4)的中心;
④ 调整五维调整平台(8):首先在光源模式下找到反射光斑,通过调节二维直动平台(13,13’)和二维精密弧摆台(14,14’),将反射光斑逐渐调至十字交叉线中心;再切换至条纹模式进行细调,根据干涉条纹不同而调节不同自由度:面对干涉仪(1),竖条纹则调节左右移动,横条纹则调节俯仰,中间疏两边密条纹则调节离焦,星形条纹则调节左右倾斜;干涉条纹越少,被测件轴心线与柱面波焦线重合越好;
保持步骤三的状态,对被测件(6)再进行一次调心调平,并切换至光源模式,在调整旋转平台(12,12’)的过程中不断调整四维调整台(7)中的二维直动台(10,10’)和二轴精密倾斜台(11,11’),使光点不偏出十字交叉中心,确保在条纹模式下被测件(6)转动一周,每个位置都有干涉条纹图,实现整周检测。
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