[发明专利]一种低温沸腾氯化系统

权利要求书

1.一种低温沸腾氯化系统，其特征在于，所述低温沸腾氯化系统包括低温沸腾氯化炉、进料装置和上排渣管，

所述低温沸腾氯化炉包括炉体，由炉体围成的炉体内腔，设置在所述炉体内腔中的第一气体分布器和第二气体分布器，以及设置在所述炉体上且与所述炉体内腔连通的上排渣口、加料口、氯气入口、排气口和流态化气体入口；

所述炉体由下至上被划分为炉底、反应段、连接段和沉降段；

所述上排渣口设置在所述反应段的上部，所述上排渣管与上排渣口连接；

所述排气口设置在所述沉降段的上部或顶部；

所述进料装置设置在所述炉体之外并通过所述加料口向炉底提供碳化渣；

所述第一气体分布器通过管道与所述氯气入口连通，且用于从上方向所述反应段内提供氯气；

所述第二气体分布器通过管道与所述流态化气体入口连通，且用于向炉底喷入流态化气体；

所述碳化渣在流态化气体的作用下呈流化态并向上运动与所述氯气逆流接触发生氯化反应。

2.根据权利要求1所述的低温沸腾氯化系统，其特征在于，所述第一气体分布器包括用于使氯气沿所述炉体内腔横截面分布的第一气体分布管组件和设置在所述第一气体分布管组件靠近所述第二气体分布器一侧的管壁上的多个喷嘴，所述第二气体分布器包括用于使流态化气体沿所述炉体内腔横截面分布的第二气体分布管组件和设置在所述第二气体分布管组件远离所述第一气体分布器一侧的管壁上的多个喷嘴。

3.根据权利要求2所述的低温沸腾氯化系统，其特征在于，所述第一气体分布管组件和所述第二分布管组件均包括母管和与所述母管连通且呈同心环布置的多个支管。

4.根据权利要求1所述的低温沸腾氯化系统，其特征在于，所述第一气体分布器设置在所述低温沸腾氯化炉内固体物料的料层料面的上方0.25～0.5m处。

5.根据权利要求1所述的低温沸腾氯化系统，其特征在于，所述第二气体分布器设置在所述反应段和所述炉底的连接处。

6.根据权利要求1所述的低温沸腾氯化系统，其特征在于，所述加料口设置在所述反应段的下部并靠近所述第二气体分布器。

7.根据权利要求1所述的低温沸腾氯化系统，其特征在于，所述加料口和所述上排渣口沿所述炉体的周向相对设置。

8.根据权利要求1所述的低温沸腾氯化系统，其特征在于，所述低温沸腾氯化炉还包括设置在所述炉底底部且与所述炉体内腔连通的下排渣口。

9.根据权利要求8所述的低温沸腾氯化系统，其特征在于，所述低温沸腾氯化系统还包括下排渣管和吹扫装置，所述下排渣管包括与所述下排渣口连通的竖直段、向下倾斜设置的倾斜段以及用于连接所述竖直段和倾斜段的弯头，所述吹扫装置与所述弯头连通以通入吹扫气体。

10.根据权利要求1所述的低温沸腾氯化系统，其特征在于，所述低温沸腾氯化系统还包括与所述排气口连通的尾气处理系统。