[发明专利]一种辐射加热元件、辐射加热器及MOCVD反应器

权利要求书

1. 一种辐射加热元件，由加热片（17）以轴线对称方式绕制而成，其特征是，所述加热片（17）的截面为异型截面。

2.根据权利要求1所述辐射加热元件，其特征是，所述加热片（17）的截面为U型。

3.根据权利要求1所述辐射加热元件，其特征是，所述加热片（17）的截面为V型。

4.根据权利要求1所述辐射加热元件，其特征是，所述加热片（17）的截面为梯型。

5.一种辐射加热器，包括辐射加热元件、电极连接元件（16）和设在辐射加热元件外侧的隔热屏蔽组件，其特征是，所述辐射加热元件采用权利要求1-4之一所述辐射加热元件，所述隔热屏蔽组件包括多层热屏蔽板，每层热屏蔽板为整板或由多块热屏蔽板（18）拼接而成；所述辐射加热元件与对应的电极连接元件（16）连接。

6.根据权利要求5所述辐射加热器，其特征是，辐射加热元件经支撑件支撑而置于隔热屏蔽组件上方。

7.一种MOCVD反应器，包括反应器壳体（8）、反应器壳体（8）顶面的多组气体接口（1,2,3,4）、反应器壳体（8）内上部用于放置基片（15）的基片载盘（5）、基片载盘（5）下方的加热器，所述基片载盘（5）的底部中心设有旋转支撑轴（11），其特征是，所述加热器为权利要求5-6之一所述辐射加热器，所述辐射加热器分布于旋转支撑轴（11）的外侧；所述加热器的外周还设有竖向热屏蔽板（9），竖向热屏蔽板（9）的顶端置于辐射加热元件与基片载盘（5）之间，而竖向热屏蔽板（6）的底端与反应器壳体（8）的底面连接。

8.根据权利要求7所述MOCVD反应器，其特征是，所述辐射加热器中的辐射加热元件包括置于旋转支撑轴（11）外侧的纵向设置的内圈辐射加热元件（12）、置于基片载盘（5）下方且水平设置的中圈辐射加热元件（13）、置于中圈辐射加热元件（13）外侧的外圈辐射加热元件（14），所述中圈辐射加热元件（13）与外圈辐射加热元件（14）均置于内圈辐射加热元件（12）的上方。

9.根据权利要求7所述MOCVD反应器，其特征是，所述内圈辐射加热元件（12）的截面形状为波浪形，所述中圈辐射加热元件（13）与外圈辐射加热元件（14）的截面均为圆弧形。