[发明专利]一种微透镜的制备方法无效
申请号: | 201410228134.9 | 申请日: | 2014-05-27 |
公开(公告)号: | CN103995305A | 公开(公告)日: | 2014-08-20 |
发明(设计)人: | 姚琲;崔灿;李轩;王楠 | 申请(专利权)人: | 天津大学 |
主分类号: | G02B3/00 | 分类号: | G02B3/00 |
代理公司: | 天津市北洋有限责任专利代理事务所 12201 | 代理人: | 王秀奎 |
地址: | 300072*** | 国省代码: | 天津;12 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 透镜 制备 方法 | ||
1.一种微透镜的制备方法,其特征在于,按照下述步骤进行:
步骤1,以利用水滴模板法制得的蜂窝状有序多孔膜作为模板,使用聚甲基硅氧烷在模板上进行浇铸,以得到聚甲基硅氧烷印章;
步骤2,使用氧等离子体对聚甲基硅氧烷印章进行修饰,以得到亲水性表面,将聚甲基硅氧烷印章表面基团由疏水性的Si-CH变为亲水性的Si-OH;
步骤3,将亲水性表面修饰后的聚甲基硅氧烷印章进行全氟化处理,利用全氟癸基三氯硅烷与聚甲基硅氧烷印章进行反应,并使全氟癸基三氯硅烷与聚甲基硅氧烷印章之间形成稳定化学键键合,再将聚甲基硅氧烷在经过全氟化处理的聚甲基硅氧烷印章上进行浇铸,以得到反向的聚甲基硅氧烷印章,即与之前利用水滴模板法制得的蜂窝状有序多孔膜作为模板制备的凸向的聚甲基硅氧烷印章相比,在全氟化处理的聚甲基硅氧烷印章上进行浇铸的第二层聚甲基硅氧烷印章变为凹向的;
步骤4,将制备的反向的聚甲基硅氧烷印章从水中取出,由于反向的聚甲基硅氧烷印章表面具有凹陷的凹坑,在凹坑中存有水,将反向的聚甲基硅氧烷印章上设置有凹坑的一面与亲水性石英玻璃基底相接触,进行冷却,以使凹坑中水转化为冰,取下反向的聚甲基硅氧烷印章,即可在亲水性石英玻璃基底上得到冰阵列;
步骤5,在亲水性石英玻璃基底的冰阵列上浇铸聚甲基丙烯酸甲酯的氯仿的溶液,在室温20—25摄氏度下放置,冰阵列融化的同时,溶剂氯仿挥发,得到聚甲基丙烯酸甲酯薄膜;
步骤6,以制备的聚甲基丙烯酸甲酯薄膜作为模板制作,将聚甲基硅氧烷浇铸在聚甲基丙烯酸甲酯薄膜上,得到聚甲基丙烯酸甲酯的微透镜阵列。
2.根据权利要求1所述的一种微透镜的制备方法,其特征在于,所述聚甲基硅氧烷为Dow Corning公司生产的184,由PDMS预聚体和交联剂组成,交联条件为60—70℃条件下交联3—4h。
3.根据权利要求1所述的一种微透镜的制备方法,其特征在于,在步骤2中,将PDMS放入氧等离子清洗器中真空脱气30min,高档18W处理1min。
4.根据权利要求1所述的一种微透镜的制备方法,其特征在于,在步骤4中,选择半导体制冷器进行30—40s冷却即可实现使凹坑中水转化为冰,选择在冷却过程中,对反向的聚甲基硅氧烷印章施加负载300—500N。
5.根据权利要求1所述的一种微透镜的制备方法,其特征在于,在步骤5中,聚甲基丙烯酸甲酯溶于氯仿中的质量百分浓度为10—15wt%。
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