[发明专利]一种混杂石墨烯膜、贵金属粒子和金属氧化物材料的集成氢气传感器及其制备方法在审
申请号: | 201410230643.5 | 申请日: | 2014-05-28 |
公开(公告)号: | CN104034758A | 公开(公告)日: | 2014-09-10 |
发明(设计)人: | 章伟;王瑞;许泳;李雨桐;李涛;秦薇薇;高志强;蔡依晨;杨楠;徐玫瑰 | 申请(专利权)人: | 南京益得冠电子科技有限公司;南京工业大学 |
主分类号: | G01N27/12 | 分类号: | G01N27/12 |
代理公司: | 南京经纬专利商标代理有限公司 32200 | 代理人: | 王月霞;唐循文 |
地址: | 211106 江苏*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 混杂 石墨 贵金属 粒子 金属 氧化物 材料 集成 氢气 传感器 及其 制备 方法 | ||
1.一种集成氢气传感器,包括基片、加热电极、导热绝缘层和检测电极,加热电极位于基片上,导热绝缘层在加热电极与检测电极之间,其特性在于:还包括沉积在检测电极上的金属氧化物薄膜,金属氧化物薄膜表面上沉积有贵金属粒子,石墨烯膜覆盖在沉积有贵金属粒子的金属氧化物薄膜上。
2.根据权利要求1所述的一种集成氢气传感器,其特征在于:所述贵金属粒子为单原子覆盖在金属氧化物薄膜上,覆盖度为0.05%-10%,颗粒尺寸为0.2nm-0.4nm,随机均匀排列。
3.根据权利要求1所述的一种集成氢气传感器,其特征在于:所述金属氧化物薄膜厚度为10nm-2μm。
4.根据权利要求1所述的一种集成氢气传感器,其特征在于:所述石墨烯膜厚度0.5-1.2nm。
5.根据权利要求1所述的一种集成氢气传感器,其特征在于:所述贵金属粒子是Au、Ag、Pt、Pd、Rh、Ru、Os、Ir中的至少一种。
6.根据权利要求1所述的一种集成氢气传感器,其特征在于:所述金属氧化物薄膜由过渡金属氧化物、非过渡金属氧化物或者金属复合氧化物制得。
7.根据权利要求6所述的一种集成氢气传感器,其特征在于:所述过渡金属氧化物为Cr2O3、γ-Fe2O3 、WO3、TiO2、NiO中的一种;所述非过渡金属氧化物为SnO2、ZnO、MgO、 Mn2O3、Co3O4、CuO、SrO、 In2O3、V2O3、GeO2、 Nb2O5、MoO3、 Ta2O5、CeO2中的一种;金属复合氧化物为CeO2-SnO2、TiO2-SnO2、TiO2-ZnO、Cu-ZnO、Sb2O3-SnO2、Bi2O3-SnO2、La2O3-SnO2、CaO-La2O3、Ag-CuO-BaTiO2、Cr1.8TiO3、Pd-La2O3-SnO2、Pd-La2O3-In2O3、ZnO-SnO2、CuO-SnO2、In-TiO2、In2O3-SnO2、Cd-SnO2、Ga-ZnO以及Li2SO4-CaSO4-SiO2中的一种。
8.权利要求1~7中任意一项所述集成氢气传感器的制备方法,其特征在于包括如下步骤:
1)清洗基片;
2)在基片上光刻加热电极图案,然后溅射或电子束沉积制备加热电极;
3)采用磁控溅射沉积法、电子束沉积法或化学气相沉积,在加热电极上制备导热绝缘层;
4)光刻检测电极图案,在步骤3)导热绝缘层上采用溅射或电子束沉积法沉积检测电极;
5)采用薄膜沉积方法在检测电极上沉积金属氧化物薄膜;
6)采用真空沉积方法在金属氧化物薄膜上沉积贵金属粒子;
7)在金属氧化物薄膜上覆盖石墨烯膜。
9.根据权利要求8所述的集成氢气传感器的制备方法,其特征在于:步骤5)所述薄膜沉积方法是化学喷雾热解法、化学气相沉积法、溶胶凝胶法、电化学沉积、磁控溅射法以及脉冲激光沉积法中的任意一种。
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