[发明专利]一种气体稀释装置及其方法

权利要求书

1.一种气体稀释装置，其特征在于，包括稳定气体流场和喷射装置，其中，

所述稳定气体流场中具有稳定流场气体A，

所述喷射装置为多个，用于向稳定流场气体A中喷入气体B。

2.如权利要求1所述的气体稀释装置，其特征在于，所述多组喷射装置在稳定气体流场中按一定规律等间距均匀分布。

3.如权利要求1或2所述的气体稀释装置，其特征在于，还包括流量调节装置和管路，气体B通过流量调节装置、管路及多组喷射装置喷入稳定气体流场。

4.如权利要求1-3中任一项所述的气体稀释装置，其特征在于，所述喷射装置包括中心管，1～10个支管，喷洒口以及导流扩散装置，所述1～10个支管设置在中心管周围，所述喷洒口对应设置在支管端部，所述导流扩散装置对应喷洒口距离一定距离设置，并用于对喷洒口喷出气体进行导流和扩散，支管和对应的喷洒口沿曲线或直线轨迹循环运动，且导流扩散装置与喷洒口之间的相对位置保持不变。

5.如权利要求4所述的气体稀释装置，其特征在于，所述稳定气体流场为烧结机料层上部，和/或多组喷射装置呈正方形网格点布置，和/或导流扩散装置为倒“V”字型。

6.一种权利要求1-5所述装置的气体稀释方法，其特征在于，包括如下步骤:

(1)在稳定流场气体A中设置喷射装置；

(2)喷射装置向稳定流场气体A中喷入气体B；

(3)喷气的同时移动喷射装置；

(4)获得均匀混合气体。

7.如权利要求6所述的气体稀释方法，其特征在于，所述喷射装置为多组，其在喷气过程中不间断地移动。

8.如权利要求6或7所述的气体稀释方法，其特征在于，所述稳定流场气体A为一个轴向四周隔离的空间的稳定气体A流场。

9.如权利要求6-8中任一项所述的气体稀释方法，其特征在于，其在大空间稳定流场下对单组份或多组分气体按一定浓度进行均匀快速混合稀释。

10.如权利要求6-9中任一项所述的气体稀释方法，其特征在于，步骤(3)中所述移动为喷射装置沿直线进行移动，沿曲线进行移动，和/或自身转动。