[发明专利]一种具有闭合自保持功能的真空灭弧室无效

专利信息
申请号: 201410236908.2 申请日: 2014-05-30
公开(公告)号: CN104051183A 公开(公告)日: 2014-09-17
发明(设计)人: 徐东晟;邱志人 申请(专利权)人: 国家电网公司;福州天宇电气股份有限公司
主分类号: H01H33/664 分类号: H01H33/664
代理公司: 福州元创专利商标代理有限公司 35100 代理人: 蔡学俊
地址: 100761*** 国省代码: 北京;11
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摘要:
搜索关键词: 一种 具有 闭合 保持 功能 真空 灭弧室
【说明书】:

技术领域

本发明涉及一种具有闭合自保持功能的真空灭弧室。

背景技术

如图1所示,传统的负荷开关真空灭弧室,静触头2和动触头3均为平板接触式,传统的真空负荷开关是由弹簧操动机构通过机械传动机构推动灭弧室内的平板式动触头3实现合闸动作。由于平板式动触3头质量大不利于合闸动作加速、触头合闸后需要由弹簧提供触头压力,操动机构合闸过程需要克服触头压簧做功后合闸扣锁,因此传统的真空负荷开关很难实现合、分闸时间<40ms。且操动机构结构复杂。

发明内容

本发明针对上述现有技术存在的问题做出改进,即本发明所要解决的技术问题是提供一种具有闭合自保持功能的真空灭弧室,使开关操动机构简化,结构简单;并使开关的合、分闸时间易于实现<25ms的技术指标,提高了开关的断开、闭合能力。

为了解决上述技术问题,本发明的技术方案是:一种具有闭合自保持功能的真空灭弧室,包括绝缘筒,所述绝缘筒的两端分别设置有静触头和动触头,所述绝缘筒的两端还均设置有密封法兰,所述动触头上套设有起密封作用的波纹管,所述绝缘筒、密封法兰、静触头、动触头和波纹管共同构成一个真空的空间,所述静触头和动触头均是一端穿出绝缘筒外,所述静触头在绝缘筒内的端部由若干个环成一圈的金属瓣组成,所述金属瓣构成一柱形空腔,所述动触头在绝缘筒内的端部周侧壁呈弧形,该弧形端部插入柱形空腔使静触头与动触头形成电性导通。

进一步的,所述波纹管与动触头焊接成一整体,起动密封作用。

进一步的,所述绝缘筒内设置有环绕静触头和动触头的屏蔽罩。

进一步的,所述绝缘筒为陶瓷制作。

进一步的,所述动触头弧形端部与波纹管之间设置有笼罩住波纹管的动触头屏蔽罩。

进一步的,所述金属瓣由电阻率低和弹性好的铜合金材料制成,瓣片有很大弹性,会夹紧插入的动触头,不需外界提供触头压力就能承载额定短路电流。

与现有技术相比,本发明具有以下有益效果:

1、触头质量轻,有利于提高合、分闸速度;

2、插入式触头具有自闭力,不需要外界提供触头压力,操动机构只需要合闸动力,不需要合闸锁扣装置,简化了操动机构;

3、分瓣式静触头由电阻率低和弹性好的铜合金材料制成,其瓣片有很大弹性,会夹紧插入的动触头,不需外界提供触头压力就能承载额定短路电流;

4、弧形触头极易插入静触头。

下面结合附图和具体实施方式对本发明做进一步详细的说明。

附图说明

图1为现有真空灭弧室的构造示意图。

图2为本发明实施例的构造示意图。

图3为本发明实施例中分瓣式静触头的俯视图。

图中:1-绝缘筒,2-静触头,21-金属瓣,3-动触头,31-弧形端部,4-密封法兰,5-动触头屏蔽罩,6-波纹管,7-屏蔽罩。

具体实施方式

实施例一:如图2~3所示,一种具有闭合自保持功能的真空灭弧室,包括绝缘筒1,所述绝缘筒1的两端分别设置有静触头2和动触头3,所述绝缘筒1的两端还均设置有密封法兰4,所述动触头3上套设有起密封作用的波纹管6,所述绝缘筒1、密封法兰4、静触头2、动触头3和波纹管6共同构成一个真空的空间,所述静触头2和动触头3均是一端穿出绝缘筒1外,所述静触头2在绝缘筒1内的端部由若干个环成一圈的金属瓣21组成,所述金属瓣21构成一柱形空腔,所述动触头3在绝缘筒1内的端部周侧壁呈弧形,该弧形端部31插入柱形空腔使静触头2与动触头3形成电性导通。

本实施例中,所述波纹管6与动触头3焊接成一整体,起动密封作用。

本实施例中,为防止开关合、分闸产生电弧导致的金属蒸汽冷凝后附着在绝缘筒内侧壁上,所述绝缘筒1内设置有环绕静触头2和动触头3的屏蔽罩7。

本实施例中,为保证绝缘,所述绝缘筒为陶瓷制作。

本实施例中,为防止开关合、分闸产生电弧导致的金属蒸汽冷凝后附着在波纹管6上,所述动触头弧形端部与波纹管之间设置有笼罩住波纹管的动触头屏蔽罩5。

本实施例中,所述金属瓣21由电阻率低和弹性好的铜合金材料制成,瓣片有很大弹性,会夹紧插入的动触头3,不需外界提供触头压力就能承载额定短路电流。

使用时,通过操动机构使动触头被快速插入静触头空腔内,形成电性导通,需要断电时,通过操动机构使动触头快速脱离静触头,形成电性断开。

以上所述仅为本发明的较佳实施例,凡依本发明申请专利范围所做的均等变化与修饰,皆应属本发明的涵盖范围。

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