[发明专利]一种电容触摸屏的3D制造方法在审

专利信息
申请号: 201410237625.X 申请日: 2014-05-31
公开(公告)号: CN104407750A 公开(公告)日: 2015-03-11
发明(设计)人: 郭太良;张永爱;周雄图;叶芸;林金堂;林志贤;林锑杭;林婷 申请(专利权)人: 福州大学
主分类号: G06F3/044 分类号: G06F3/044;G06F17/50
代理公司: 福州元创专利商标代理有限公司 35100 代理人: 蔡学俊
地址: 350108 福建省福州市*** 国省代码: 福建;35
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摘要:
搜索关键词: 一种 电容 触摸屏 制造 方法
【说明书】:

技术领域

发明涉及一种电容触摸屏的3D制造方法,应用于电容触摸屏制备。

背景技术

触摸屏操作是一种新型操作方式,目前有取代传统按键、鼠标和键盘的趋势,为了操作上的方便,人们采用触摸屏来替代其它输入设备作为电子产品新的操作方式。首先用手指或其它物体触摸安装在显示屏前端的触摸屏上,然后控制中心通过触摸屏的信号分析接触点坐标,并进行控制。

现有触摸屏的制造多采用光刻和镀膜等技术,而光刻技术和镀膜技术则需要很多道工艺。现有技术制造触摸屏的步骤详细叙述为:①清洗ITO玻璃;②旋涂或辊涂光刻胶并预烘;③通过掩膜版曝光光刻胶;④利用显影液产生光刻胶图案并坚膜;⑤利用刻蚀液将没有光刻胶保护的区域刻蚀掉;⑥利用退胶液去除光刻胶,形成ITO电极图案;⑦于另一面镀ITO屏蔽层;⑧利用印刷的方法形成电极引线;⑨涂布保护层;⑩连接FPC引线与封装;由于传统工艺,需要多道黄光与镀膜工艺,采用减法制作器件,所以造成工艺的复杂,成品率,以及原料浪费等问题。

综上,针对现有触摸屏制造工艺的复杂、成品率、原料浪费等问题,结合3D打印的优势,提出一种简单、节约原材料的工艺就显得很有意义。

发明内容

本发明的目的在于克服现有技术的不足,提供一种电容触摸屏的3D制造方法。

本发明的技术方案在于:

一种电容触摸屏的3D制造方法,所述电容触摸屏包含:

一基板层,用于承接其它材料或层;

一屏蔽层,所述屏蔽层设置于所述基板层下侧,用于屏蔽所述触摸屏之外的电子设备,防止电磁干扰,保证良好的工作环境;

一工作层,所述工作层设置于所述基板层另一侧,用于检测电位触摸点位置;

一保护层,所述保护层为一绝缘介质,设置于工作层表面,使接触点与所述工作层形成耦合电容;其中,

所述屏蔽层是采用3D打印一层或若干层的导电材料所构成的透明导电层;

所述工作层包括一级导电层和二级导电层;所述二级导电层作用在于检测触摸点,所述一级导电层为狭长的电极引线,所述电极引线一端连接所述二级导电层的四角,另一端连接外界驱动电路;

所述一级导电层是采用3D打印一层或若干层的金属导电材料所构成的导电层;

所述二级导电层是采用3D打印一层或若干层的导电材料所构成的透明导电层;

所述保护层是采用3D打印一层或若干层的绝缘材料所构成的透明层;

所述电容触摸屏为表面电容触摸屏,当手指轻触所述触摸屏,并与工作层形成耦合电容,吸走交流电流,电流分别从四角上的电极流出,根据四角电流强弱,进行计算触摸点的位置,其特征在于,所述3D制造步骤如下:

S1:依次设计生成所述电容触摸屏中的所述屏蔽层、第一电极层、第二电极层和保护层的三维数字模型;; 

S2:利用软件对所建立的所述屏蔽层、第一电极层、第二电极层和保护层三维模型依次进行分层,获得Z轴方向的二维子层;

S3:将所述二维子层导入3D打印机程序中,根据所建模型得出每层二维平面上的材料和形状,设计出打印路径;

S4:将所述基板层放在3D打印装置台面上,在其一面上打印所述屏蔽层;所述屏蔽层,打印可以是图案,也可以是整面;所述屏蔽层,包括一个或多个3D打印子层;

S5:翻转基板,在所述基板层另一面打印工作层,根据所述三维数字模型,内部打印所述二级导电层,外侧打印所述一级导电层;所述一级导电层或二级导电层包括一层或多层3D打印子层,所述一级导电层与所述二级导电层可以存在高度差;所述四角的电极引到所述触摸屏的一侧,并连接于外接引线;

S6:继续打印保护层,所述保护层为透明绝缘介质层。

其中,在同一基板上打印一个触摸屏或多个触摸屏阵列,所述多个触摸屏阵列采用切割的方式进行分离。

所述屏蔽层为透明导电层,所述透明导电层的结构为有序网格状或无序网格状,或为面状结构;所述网格状导电层由透明导电材料或非透明导电材料构成;所述面状结构的导电层由透明导电材料构成。 

所述透明导电层包括金属纳米颗粒、金属量子点、金属氧化物、石墨烯、碳纳米管、金属纳米线中的一种或两种及其以上复合而成。

所述一级导电层为金属材料组成;所述一级导电层的形状为网格状、条状、面状。

所述二级导电层为透明导电层,所述透明导电层的结构为有序网格状或无序网格状,或为面状结构;所述网格状导电层由透明导电材料或非透明导电材料构成;所述面状结构导电层由透明导电材料构成。 

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