[发明专利]一种触摸屏用感应组件及其制备方法、触摸屏

权利要求书

1.一种触摸屏用感应组件，其特征在于，包括透明柔性薄膜基底以及位于透明柔性薄膜基底表面的感应线路；所述感应线路为透明导电薄膜，其厚度为15-25μm。

2.根据权利要求1所述的触摸屏用感应组件，其特征在于，所述透明柔性薄膜基底表面分为可视区以及位于可视区四周的边框区；

所述触摸屏用感应组件还包括遮蔽层，所述遮蔽层覆盖所述边框区，并且所述遮蔽层位于所述透明柔性薄膜基底和感应线路之间。

3.根据权利要求2所述的触摸屏用感应组件，其特征在于，所述触摸屏用感应组件还包括平整层，所述平整层位于所述透明柔性薄膜基底和感应线路之间，并且所述平整层至少覆盖所述可视区。

4.根据权利要求3所述的触摸屏用感应组件，其特征在于，所述平整层仅覆盖所述可视区，并且所述平整层厚度与所述遮蔽层厚度相同。

5.根据权利要求3所述的触摸屏用感应组件，其特征在于，所述平整层同时覆盖所述可视区和遮蔽层，并且所述平整层表面为平面。

6.根据权利要求1-5中任意一项所述的制备方法，其特征在于，所述透明柔性薄膜基底选自聚对苯二甲酸乙二醇酯、聚甲基丙烯酸甲酯、聚碳酸酯中的一种；所述透明柔性薄膜基底厚度为300-1000μm。

7.如权利要求1所述的触摸屏用感应组件的制备方法，其特征在于，包括：

S1、提供透明柔性薄膜基底；

S2、在透明柔性薄膜基底上贴附厚度为15-25μm的可转印透明导电薄膜；

S3、对透明柔性薄膜基底上的可转印透明导电薄膜进行曝光处理，然后静置；所述曝光处理的方法为：采用波长为365nm、能量为30-60mj/cm²的UV光照射所述可转印透明导电薄膜；

S4、采用pH值为10.5-11.5的显影液对曝光处理后的可转印透明导电薄膜进行显影处理，得到导电图案；

S5、对导电图案进行固化处理，得到厚度为15-25μm的感应线路；所述固化处理方法为：采用波长为365nm、能量为500-1000mj/cm²的UV光照射所述导电图案。

8.根据权利要求7所述的制备方法，其特征在于，在所述步骤S1之后S2之前，还包括缩水步骤：在100-150℃下将所述透明柔性薄膜基底烘烤30-60min。

9.根据权利要求7或8所述的制备方法，其特征在于，所述步骤S2中，通过滚贴的方式在透明柔性薄膜基底上贴附可转印透明导电薄膜；

所述滚贴的条件为：上滚轮温度为100-140℃，下滚轮温度为80-100℃，滚贴速度为0.5-1m/min，滚轮压力为2-5kg/cm²。

10.根据权利要求9所述的制备方法，其特征在于，所述步骤S3中，包括先曝光处理15-25s，然后静置15-30min，再曝光处理15-25s。

11.根据权利要求7、8、10中任意一项所述的制备方法，其特征在于，所述步骤S4中，显影处理方法为：将曝光处理后的可转印透明导电薄膜在显影液中显影30-50s；所述显影液为29-31℃、浓度为的0.05-0.15wt％的碳酸钠溶液。

12.根据权利要求7所述的制备方法，其特征在于，所述步骤S1中，透明柔性薄膜基底表面分为可视区以及位于可视区四周的边框区；所述边框区内具有遮蔽层。

13.根据权利要求12所述的制备方法，其特征在于，在所述步骤S1之后步骤S2之前还包括在透明柔性薄膜基底表面涂覆UV胶并固化，形成平整层；所述平整层至少覆盖所述可视区。

14.根据权利要求13所述的制备方法，其特征在于，所述平整层仅覆盖所述可视区，并且所述平整层厚度与所述遮蔽层厚度相同；

或者，所述平整层同时覆盖所述可视区和遮蔽层，并且所述平整层表面为平面。

15.根据权利要求7、8、10、12-14中任意一项所述的制备方法，其特征在于，所述透明柔性薄膜基底选自聚对苯二甲酸乙二醇酯、聚甲基丙烯酸甲酯、聚碳酸酯中的一种；所述透明柔性薄膜基底厚度为300-1000μm。

16.一种触摸屏，其特征在于，包括感应组件、导电胶层和柔性线路板；

所述感应组件为权利要求7-15中任意一项所述的方法制备得到的触摸屏用感应组件；

所述感应组件的透明柔性薄膜基底表面分为可视区以及位于可视区四周的边框区；

所述导电胶层位于感应线路表面并与感应线路导通，所述导电胶层位于边框区内；

所述柔性线路板固定于导电胶层表面，并与导电胶层导通。