[发明专利]光配向膜及其制作方法、液晶显示器有效
申请号: | 201410241216.7 | 申请日: | 2014-05-30 |
公开(公告)号: | CN104035237B | 公开(公告)日: | 2017-03-01 |
发明(设计)人: | 肖昂 | 申请(专利权)人: | 京东方科技集团股份有限公司;北京京东方光电科技有限公司 |
主分类号: | G02F1/1337 | 分类号: | G02F1/1337 |
代理公司: | 北京银龙知识产权代理有限公司11243 | 代理人: | 许静,黄灿 |
地址: | 100015 *** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 及其 制作方法 液晶显示器 | ||
技术领域
本发明涉及液晶显示技术领域,特别是涉及一种光配向膜及其制作方法、液晶显示器。
背景技术
在液晶显示器中,聚酰亚胺(Polyimide,简称PI)膜是一种用于确保液晶分子按要求取向并形成一定预倾角的功能性膜层,也称为配向膜。实际应用过程中,只需要在液晶显示器的显示区域设置配向膜,而其它位置(如周边电路连接处)则不需要设置配向膜,因此,配向膜的制作工艺中包括图形化工艺。
现有技术中,通常采用图形化涂覆的方式来完成配向膜的图形化,具体为:
根据产品的尺寸和结构设计具有配向膜取向图案的转印板,将配向膜材料粘接到转印板上形成配向膜,使得配向膜具有一定的取向,再通过印刷的方式将转印板上图形化的配向膜印刷到液晶显示器的基板上,使得配向膜仅位于液晶显示器的显示区域。
其中,图形化涂覆有以下几个缺点:
一、每个产品的尺寸和设计不同,不同产品的图形化涂覆需要不同的转印版,设计和材料成本高;
二、转印版有一定的使用寿命,存在维护和更换成本;
三、图形化涂覆在图形化边界精度方面存在瓶颈,无法对应精细化的图形;
四、图形化涂覆包括涂覆和转印两个过程,生产效率较低。
发明内容
为解决上述技术问题,本发明提供一种光配向膜及其制作方法、液晶显示器,以降低制作图形化的配向膜的成本,并提高生产效率和图形化边界的精度。
为解决上述技术问题,本发明提供一种光配向膜的制作方法,包括:
在一基板上形成光配向薄膜;
使偏振光通过一掩膜板照射所述光配向薄膜,所述掩膜板包括透光区域和位于所述透光区域外围的不透光区域,偏振光透过所述透光区域对照射的光配向薄膜进行取向;
去除所述不透光区域对应的光配向薄膜,形成图形化的光配向膜。
本发明还提供一种光配向膜,采用如上所述的制作方法制得。
本发明还提供一种液晶显示器,采用如上所述的光配向膜,所述光配向膜对应液晶显示器的显示区域。
本发明的上述技术方案的有益效果如下:
上述技术方案中,使偏振光通过一掩膜板照射光配向薄膜,对应显示区域的光配向薄膜利用异向性能量的偏振光进行取向,而对应显示区域外围的非显示区域的光配向薄膜未发生取向,并去除未取向的光配向薄膜,从而使得光配向薄膜只对应显示区域,形成图形化的光配向膜。相对于图形化涂覆方式形成的图形化光配向膜,本发明的技术方案提高了光配向膜边界的精度,生产效率较高。而且掩膜板的制作成本及维护成本均低于图形化涂覆使用的转印板,降低了生产成本。
附图说明
为了更清楚地说明本发明实施例或现有技术中的技术方案,下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍,显而易见地,下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例,对于本领域普通技术人员来讲,在不付出创造性劳动性的前提下,还可以根据这些附图获得其他的附图。
图1-图3表示本发明实施例中光配向膜的制作过程示意图。
图4a表示图形化涂覆方式制备的光配向膜;
图4b表示本发明实施例中制备的光配向膜。
具体实施方式
液晶显示器通过配向膜来实现液晶分子按要求取向并形成一定预倾角。在实际应用过程中,只需要在液晶显示器的显示区域设置配向膜,而其它位置(如周边电路连接处)则不需要设置配向膜,因此,配向膜的制作工艺中包括图形化工艺。现有技术中,通常采用图形化涂覆的方式来完成配向膜的图形化,但其存在形成的配向膜边界精度低,生产效率低,转印板制作成本及维护成本较高的问题。
为了解决上述技术问题,本发明提供一种光配向膜的制作方法,通过使偏振光通过一掩膜板照射光配向薄膜,对应显示区域的光配向薄膜利用异向性能量的偏振光进行取向,而对应显示区域外围的非显示区域的光配向薄膜未发生取向,并去除未取向的光配向薄膜,从而使得光配向薄膜只对应显示区域,形成图形化的光配向膜。相对于图形化涂覆方式形成的配向膜,本发明的技术方案提高了配向膜边界的精度,生产效率较高。而且掩膜板的制作成本及维护成本均低于图形化涂覆使用的转印板,降低了生产成本。
其中,光配向膜的取向原理为:
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