[发明专利]薄膜图案的制作方法及基板结构

权利要求书

1.一种薄膜图案的制作方法，包括：

提供一第一介质基材，该第一介质基材上形成有一绝缘的离型膜；

在该离型膜上形成一薄膜图案；

提供一暂存基材以及一接合层；

以该接合层接合于该暂存基材与该薄膜图案之间；

转移该薄膜图案及该离型膜至该暂存基材上；

提供一第二介质基材以及一黏着层；

以该黏着层贴附于该离型膜与该第二介质基材之间；以及

转移该薄膜图案与该离型膜至该第二介质基材上。

2.如权利要求1所述的薄膜图案的制作方法，进一步在该第一介质基材与离型膜之间涂布一离型剂。

3.如权利要求1或2所述的薄膜图案的制作方法，其中该薄膜图案由硬质的该第一介质基材转移至该暂存基材，再由该暂存基材转移至硬质的该第二介质基材。

4.如权利要求3所述的薄膜图案的制作方法，其中该暂存基材是一软质的暂存基材。

5.如权利要求1所述的薄膜图案的制作方法，其中在该第一介质基材上形成含有聚亚酰胺材质的离型膜。

6.一种薄膜图案的制作方法，包括：

提供一第一介质基材，该第一介质基材上形成有一绝缘的离型膜；

在该离型膜上形成一薄膜图案；

提供一第二介质基材以及一黏着层；

以该黏着层贴附于该薄膜图案与该第二介质基材之间；以及

转移该薄膜图案及该离型膜至该第二介质基材上。

7.如权利要求6所述的薄膜图案的制作方法，进一步在该第一介质基材与离型膜之间涂布一离型剂。

8.如权利要求6或7所述的薄膜图案的制作方法，其中在该第一介质基材上形成含有聚亚酰胺材质的离型膜。

9.一种基板结构，包括：

基板单元；

薄膜图案，配置于该基板单元上；

绝缘的离型膜，配置于该薄膜图案与该基板单元之间；以及

黏着层，接合该离型膜与该基板单元。

10.如权利要求9所述的基板结构，还包括：

接合层，接合于该离型膜上；

暂存基材，接合于该接合层上。

11.如权利要求9或10所述的基板结构，该离型膜的材质为含有聚亚酰胺的材质。

12.如权利要求9或10所述的基板结构，其中该基板单元由一基板劈裂或切割后各自分离形成，而该基板单元的边缘具有劈裂或切割结构。