[发明专利]连续气体填充工艺和用于制造绝缘玻璃单元的设备

权利要求书

1.用于以至少两种绝缘气体来填充绝缘玻璃单元的至少一个板间空间的方法，所述方法包括：

从第一源提供第一绝缘气体的供给；

从第二源提供第二绝缘气体的供给；

获得与所述绝缘玻璃单元的第一板间空间相关联的气体填充数据，所述气体填充数据表示用以填充所述第一板间空间的第一和第二绝缘气体的量；

根据所述气体填充数据在第一填充操作中以所述第一绝缘气体来填充所述第一板间空间；以及

根据所述气体填充数据在第二填充操作中以所述第二绝缘气体来填充所述第一板间空间，其中所述第二填充操作发生在所述第一填充操作完成之后。

2.根据权利要求1所述的方法，其中所述方法还包括：

经由能插入至所述第一板间空间中的第一气体填充管将所述第一和第二绝缘气体供给至所述第一板间空间。

3.根据权利要求1所述的方法，其中，所述气体填充数据包括表示所述第一板间空间的体积的数据。

4.根据权利要求1所述的方法，其中，所述第一绝缘气体是氩气并且所述第二绝缘气体是氪气。

5.根据权利要求1所述的方法，其中，所述气体填充数据包括下述中的一个或多个：

单元标识符，其标识了所述绝缘玻璃单元；

所述绝缘玻璃单元的所述第一板间空间的长度、宽度和厚度；

所述第一板间空间的体积；

用于所述第一和第二绝缘气体的气体选择；

用以填充所述第一板间空间的所述第一和第二绝缘气体的体积；

用于在所述第一板间空间内的所述第一和第二绝缘气体中的每一种的期望浓度；

用于填充所述第一板间空间的所述第一和第二绝缘气体中的每一种的期望气体流动速率；以及

用于填充所述第一板间空间的所述第一和第二绝缘气体中的每一种的填充次数。

6.根据权利要求1所述的方法，其中，所述方法还包括：

获得与所述绝缘玻璃单元的第二板间空间相关联的气体填充数据，所述气体填充数据表示用以填充所述第二板间空间的所述第一和第二绝缘气体的量；

根据所述气体填充数据在第三填充操作中以所述第一绝缘气体来填充所述第二板间空间；以及

根据所述气体填充数据在第四填充操作中以所述第二绝缘气体来填充所述第二板间空间，其中所述第四填充操作发生在所述第三填充操作完成之后。

7.根据权利要求6所述的方法，其中，所述第一板间空间填充有所述第一和第二绝缘气体，同时以所述第一和第二绝缘气体来填充所述第二板间空间。

8.根据权利要求7所述的方法，其中，所述第一和第二绝缘气体经由能插入至所述第一板间空间中的第一气体填充管供给至所述第一板间空间，并且所述第一和第二绝缘气体经由能插入至所述第二板间空间中的第二气体填充管供给至所述第二板间空间。

9.根据权利要求1所述的方法，其中，所述第一和第二绝缘气体从由下述构成的组合中进行选择：氩、氪、氙和六氟化硫。

10.根据权利要求1所述的方法，其中，所述方法还包括：

监测流动至所述第一板间空间中的所述第一和第二绝缘气体的体积，以便确定何时停止所述第一和第二绝缘气体至所述第一板间空间的流动。

11.根据权利要求1所述的方法，其中，所述方法还包括：

提供与所述绝缘玻璃单元相关联的单元标识符，所述单元标识符用来获得所述气体填充数据。

12.根据权利要求1所述的方法，其中，多个绝缘玻璃单元的板间空间是同时填充有所述第一和第二绝缘气体的，每一个绝缘玻璃单元均具有各自相关联的气体填充数据。

13.根据权利要求1所述的方法，其中，所述方法还包括：

监测用于供给所述第一绝缘气体的所述第一源和用于供给所述第二绝缘气体的所述第二源中的至少一个的重量，其中所述第一和第二源在重量上的变化表示由所述第一和第二源供给的第一和第二绝缘气体的相应量。