[发明专利]蒸镀装置、蒸镀设备及蒸镀方法无效
申请号: | 201410247239.9 | 申请日: | 2014-06-05 |
公开(公告)号: | CN104004995A | 公开(公告)日: | 2014-08-27 |
发明(设计)人: | 张耀宇 | 申请(专利权)人: | 上海和辉光电有限公司 |
主分类号: | C23C14/24 | 分类号: | C23C14/24;C23C14/54 |
代理公司: | 隆天国际知识产权代理有限公司 72003 | 代理人: | 赵根喜;郑特强 |
地址: | 201500 上海市金山区*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 装置 设备 方法 | ||
技术领域
本发明涉及蒸镀技术,特别涉及一种能利用摇摆式蒸镀装置提高成膜均匀性的蒸镀装置、蒸镀设备及蒸镀方法。
背景技术
如图1所示,为现有技术蒸镀机构简化结构示意图。该蒸镀机构在一个蒸镀腔体60内,通过一移载机构61载置一组线性蒸镀源62。
现有技术蒸镀机构实施蒸镀时,在基板进行镀膜前,移载机构61先位于基板保护台65一侧,利用一组镀率感测器63确认线性蒸镀源62镀率稳定后;再依照镀率,根据所述需成膜厚度,计算出蒸镀源62扫描通过次数与直线运行速度;然后,按照预算的次数和速度,以移载机构61移动线性蒸镀源62进行扫描镀膜。
现有技术蒸镀机构存在的技术问题在于,线性蒸镀源62在扫描蒸镀时,因无法再实时感测镀率的变化,所以不能在线调整修正线性扫描蒸镀速度,会造成同一基板上成膜厚度的大幅变化,成膜均匀性的不稳定。
现有技术蒸镀机构需要解决的技术问题在于,使用这种扫描蒸镀方式时,由于移载机构61需要先在基板保护台5一侧进行镀率测试,并等待镀率稳定。这样,会大量浪费蒸镀源中昂贵的有机原料,使成本居高不下。同时,这种结构也使蒸镀设备的体积庞大,也会增加其维持真空状态的成本,不利于降低制造成本,影响厂区空间摆放效率。其运作发展受到相当大的限制与不便。
发明内容
为解决现有技术的问题,本发明的主要目的在于提供一种成膜均匀性更高的蒸镀装置。
本发明的次要目的在于提供一种降低蒸镀设备体积与制造成本的蒸镀装置。
本发明的再一目的在于提供一种成膜均匀性更高的蒸镀设备。
本发明的再一目的在于提供一种降低蒸镀设备体积与制造成本的蒸镀设备。
本发明的再一目的在于提供一种成膜均匀性更高的蒸镀方法。
本发明的再一目的在于提供一种降低蒸镀设备体积与制造成本的蒸镀方法。
为实现上述发明目的,本发明提供一种蒸镀装置包括:至少一蒸镀源,具有多个喷口;以及,一动力装置,接设于所述蒸镀源,所述动力装置驱动所述蒸镀源致使所述蒸镀源往复摇摆。
本发明相较于现有技术的有益技术效果在于:本发明将现有线性蒸镀源直线扫描生产方式,改为摇摆方式来达成成膜目的。利用蒸镀源的摇摆,减少其中一个或多个喷口出气率不良时的影响,提高上升后蒸镀气体均匀性,从而提高成膜均匀性。
根据一实施例,多个所述蒸镀源顺待蒸镀基板长度或宽度方向排布为一排或多排;同一排的所述蒸镀源安装于一摇摆轴件,所述动力装置通过所述摇摆轴件致使所述蒸镀源往复摇摆。
根据一实施例,所述蒸镀源具有多个坩埚,各所述坩埚分别设有一个所述喷口;所述多个坩埚垂直于所述摇摆轴件的轴线排布。。
根据一实施例,所述摇摆轴件为一传动轴,所述蒸镀源固定于所述摇摆轴件上,且各所述蒸镀源固定于所述摇摆轴件角度错开分布;所述动力装置得以带动所述摇摆轴件在一定角度内往复转动。
根据一实施例,所述摇摆轴件为一多级套组轴,各所述蒸镀源分别固定于其所处的所述摇摆轴件各级轴上;所述动力装置通过所述摇摆轴件能分别带动所述各蒸镀源在一定角度内往复转动。
根据一实施例,所述蒸镀源为多个,多个所述蒸镀源顺待蒸镀基板长度或宽度方向排布为一排或多排;所述各蒸镀源分别连接于一动力装置。
根据一实施例,各所述坩埚都分别具有加热装置。
从另一角度来看,本公开提供一种应用如前所述蒸镀装置的蒸镀设备,还包括一移载机构、多个镀率感应器及一蒸镀控制器;其中:所述移载机构可移动地承载所述蒸镀装置;所述镀率感应器设置于所述蒸镀源,位于所述蒸镀源排放范围内;所述蒸镀控制器连接控制所述蒸镀装置的动力装置,所述镀率感应器信号连接至所述蒸镀控制器;所述蒸镀控制器根据所述镀率感应器测得数据控制所述蒸镀装置的摇摆动作。
本发明相较于现有技术的有益技术效果在于:本发明将多个蒸镀源分为不同角度上的多个,分别安装在转动轴上,以驱动装置带动转动轴来分别带动这些蒸镀源进行摇摆。这些蒸镀源中都具有各自的电加热装置。并根据镀率感应器的实时反馈,控制蒸镀源位置与摇摆速度的调整。从而获得均匀膜厚的薄膜。
根据一实施例,更包括一基板保持台位于所述蒸镀装置上方,其内固定待蒸镀基板,所述基板保持台上也设置有多个镀率感应器,这些镀率感应器位于所述基板待蒸镀区域外周侧,所述镀率感应器位于所述蒸镀装置排放范围内。
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