[发明专利]颞颌关节MR扫描张口位固定器在审

专利信息
申请号: 201410248778.4 申请日: 2014-06-06
公开(公告)号: CN105266808A 公开(公告)日: 2016-01-27
发明(设计)人: 阴祖栋 申请(专利权)人: 山东省交通医院
主分类号: A61B5/055 分类号: A61B5/055
代理公司: 济南泉城专利商标事务所 37218 代理人: 李桂存
地址: 250031 *** 国省代码: 山东;37
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摘要:
搜索关键词: 关节 mr 扫描 张口 固定器
【说明书】:

技术领域

本发明涉及一种医疗器械,特别涉及一种颞颌关节MR扫描张口位固定器。

背景技术

目前颞颌关节MR常规扫描是:先进行闭口位检查,然后保持不动,再进行开口检查,在开口检查时,由于扫描时间较长,患者必须保持一定姿势不动约10分钟,然而由于时间较长,患者无法保持同一姿势的稳定性及位置的统一性,因此如何保持同一姿势的稳定性及位置的统一性成为亟待解决的问题。

发明内容

本发明为了解决颞颌关节MR扫描中进行开口检查时,患者无法保持同一姿势的稳定性及位置的统一性问题,提供了一种颞颌关节MR扫描张口位固定器。

本发明是通过以下技术方案实现的:

本颞颌关节MR扫描张口位固定器,包括阶梯型立体块,所述阶梯型立体块的层数为3层,其由第一阶层、第二阶层和第三阶层组成,所述阶梯型立体块的每层阶梯面上均设有与上牙齿部位相对应的第一上凹槽、第二上凹槽和第三上凹槽,所述阶梯型立体块的每层阶梯面相对应的底面上均设有与下牙齿部位相对应的第一下凹槽、第二下凹槽和第三下凹槽。

作为优化,所述第一阶层的外侧部边缘设有胶布。

作为优化,所述阶梯型立体块的长度为3-3.5cm,所述第一阶层、第二阶层和第三阶层的厚度均为1cm。

作为优化,所述第一上凹槽、第二上凹槽和第三上凹槽均布设置在所述阶梯型立体块的每层阶梯面的中部。

作为优化,所述第一下凹槽、第二下凹槽和第三下凹槽均布设置在所述阶梯型立体块的每层阶梯面相对应的底面的中部。

作为优化,所述第一上凹槽和第二上凹槽之间的距离以及第二上凹槽和第三上凹槽之间的距离为1cm,所述第一下凹槽和第二下凹槽之间的距离以及第二下凹槽和第三下凹槽之间的距离为1cm。

作为优化,所述第二上凹槽的深度比第一上凹槽和第三上凹槽大0.3~0.5mm,所述第二下凹槽的深度比第一下凹槽和第三下凹槽大0.3~0.5mm。

本发明颞颌关节MR扫描张口位固定器的有益效果是:

通过使用此颞颌关节MR扫描张口位固定器,在颞颌关节扫描时能让患者张口位保持稳定及位置的统一性,而且进行课题研究时能让患者张口位颞颌关节保持统一,有利于研究的重复性。具有较好的实际应用价值和推广价值。

附图说明

下面结合附图对本颞颌关节MR扫描张口位固定器作进一步说明:

图1是本颞颌关节MR扫描张口位固定器的结构示意图。

图中:1为第一阶层、2为第二阶层、3为第三阶层、4为第一上凹槽、5为第二上凹槽、6为第三上凹槽、7为第一下凹槽、8为第二下凹槽、9为第三下凹槽、10为胶布。

具体实施方式

为使本发明的目的、技术方案及优点更加清楚明白,以下参照附图并举实施例,对本发明进一步详细说明。

如图1所示,本颞颌关节MR扫描张口位固定器,包括阶梯型立体块,所述阶梯型立体块的层数为3层,其由第一阶层1、第二阶层2和第三阶层3组成,所述阶梯型立体块的每层阶梯面上均设有与上牙齿部位相对应的第一上凹槽4、第二上凹槽5和第三上凹槽6,所述阶梯型立体块的每层阶梯面相对应的底面上均设有与下牙齿部位相对应的第一下凹槽7、第二下凹槽8和第三下凹槽9;所述第一阶层1的外侧部边缘设有胶布10;所述阶梯型立体块的长度为3-3.5cm,所述第一阶层1、第二阶层2和第三阶层3的厚度均为1cm;所述第一上凹槽4、第二上凹槽5和第三上凹槽6均布设置在所述阶梯型立体块的每层阶梯面的中部;所述第一下凹槽7、第二下凹槽8和第三下凹槽9均布设置在所述阶梯型立体块的每层阶梯面相对应的底面的中部;所述第一上凹槽4和第二上凹槽5之间的距离以及第二上凹槽5和第三上凹槽6之间的距离为1cm,所述第一下凹槽7和第二下凹槽8之间的距离以及第二下凹槽8和第三下凹槽9之间的距离为1cm;所述第二上凹槽5的深度比第一上凹槽4和第三上凹槽6大0.3~0.5mm,所述第二下凹槽8的深度比第一下凹槽7和第三下凹槽9大0.3~0.5mm。

作为优化,所述阶梯型立体块采用橡胶或其他无味、无磁且不易引起患者呕吐等材料。

使用时,根据不同患者的口径,选择合适的阶层将上下牙齿咬合定位于凹槽中,并用胶带固定于脸部,从而在患者保持同一姿势的稳定性及位置的统一性下,进行颞颌关节MR时间较长的开口检查。

上述具体实施方式仅是本发明的具体个案,并非是对本发明作其它形式的限制,任何熟悉本专业的技术人员可能利用上述揭示的技术内容加以变更或改型为等同变化的等效实施方式。但是凡是未脱离本发明技术原理的前提下,依据本发明的技术实质对以上实施方式所作的任何简单修改、等同变化与改型,皆应落入本发明的专利保护范围。

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