[发明专利]一种大面积平板式PECVD设备反应腔压力的控制装置

权利要求书

1.一种大面积平板式PECVD设备反应腔压力的控制装置，包括反应腔体（7），其特征在于，所述反应腔体（7）入口端与送气系统连通，所述反应腔体（7）出口端通过气路管道（9）与真空泵（1）连通，所述反应腔体（7）与所述真空泵（1）之间的气路管道（9）上安装有真空蝶阀（2）；所述真空蝶阀（2）、反应腔体（7）之间的气路管道（9）与微调气路（10）连通；所述的微调气路（10）包括质量流量控制器（4）和与所述质量流量控制器（4）气路接口连通的管道；所述的反应腔体（7）出口端气路管道（9）内安装有压力传感器（5）；所述真空蝶阀（2）的电子执行器、质量流量控制器（4）、压力传感器（5）均与控制器相连接。

2.根据权利要求1所述的大面积平板式PECVD设备反应腔压力的控制装置，其特征在于，所述真空泵（1）与所述真空蝶阀（2）之间的气路管道（9）上安装有第一气动阀（11）。

3.根据权利要求1或2所述的大面积平板式PECVD设备反应腔压力的控制装置，其特征在于，所述微调气路上安装有第二气动阀（8）。